公司定于2012年开始正式推出EUV光刻机

时间：2012-05-27

据ASML公司透露，公司定于2012年开端正式推出的下一代正式量产用EUV光刻机型NXE:3300曾经得到了10台数量的订单.这些订单的客户主要 是来自日本，韩国，闽台以及美国地域的逻辑芯片/存储芯片厂商。NXE:3300机型的成像才能，套刻精度以及晶圆产出量相比前代试量产型产品3100均 有改善，机型推出的目的是赶在各厂商推行22nm半代制程时被投入芯片的量产消费。
据ASML公司透露，其前代试量产用机型NXE:3100一共收到了6份订单，这是一台数值孔径NA0.25，图像解析度27nm的EUV光刻机。（NXE:3300B则解析度提升到22nm，NA值提升到0.32）这六份订单中其中有半数曾经正式交货给客户（依据以前的报道揣测，这三家应该分别是韩国三星，比利时IMEC以及Intel，台积电，韩国Hynix，日本东芝公司这四家中的一家），余下的三台也将在今年年末托付。
 NXE:3300机型的晶圆产出量可达每小时100片，而前代NXE:3100则仅60片/小时。
 在闽台的众多内存芯片厂商之中，瑞晶公司据报道将是目前为止*一一家订购了EUV光刻机的闽台厂商。其他厂商则仍在为购置这种光刻机攒钱，这台光刻机的售价曾经到达了1亿美圆的程度。
 台积电公司自然也是ASML的大客户之一，他们去年便曾经宣布定购了ASML公司消费的NXE:3100机型。
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