太阳能扩散炉

时间：2014-10-22

太阳能电池扩散工艺及其设备

技术方案是：一种太阳能电池扩散工艺，在太阳能电池扩散工艺中通控制抽气排风压力，使抽气排风压力这个参数保持稳定，抽气排风压力这个参数保持稳定，抽气排风压力的稳定导致辞磷在硅片中的注入浓度稳定，使加工后得到的硅片的方块电池保持稳定，在后道的烧结中可以匹配出高效的太阳能电池。抽气排风压力通过在机台排风端加装的排风压力控制阀和排风压力控制器进行控制。

一种太阳能电池扩散设备，包括扩散炉和机台排风端，扩散炉内产生的废气通过管道从机台排风端排出，机台排风端安装风压力控制阀和相应的排风压力控制器。

进入扩散炉的气体和化学品由气体流量控制器控制，因此是稳定的。但是排风是由厂务直接控制的，抽气排风压力就是厂务排风的压强，由于厂务排风连接多个机台，所以排风压力是是稳定的。一般控制的压强范围是1.5-5mbar。通过实验发现抽气排风压力对硅片的方块电池同样具有较大影响。

由于抽气排风压力波动导致磷在硅片中的注入的浓度发生变化，因为方块电阻跟磷的搀杂浓度有关。方块电阻就会在49.5-54ohm的区间里相应变化。

效果是：抽气排风压力稳定后，磷在硅片中的注入浓度稳定后，方块电阻也随之稳定，可以提升较终太阳能电池的效率5%。

词条
词条说明
led**炉
■ LED**炉特点 ◆ 关键件全部采用进口件，具有高可靠性 ◆ 具有可编程的升、降温功能 ◆ 具有断电报警、**温报警、极限**温报警等多种安全保护功能。 ◆ 具有高抗干扰能力 ◆ 具有多种工艺管路，可供用户随意灵活配置 ★ 赛瑞达可
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等离子增强化学气相淀积系统(PECVD) PECVD（等离子增强化学气相淀积）设备是一种用于在基片上生成高质量SiNx和SiO2薄膜的**设备。淀积温度范围宽( 100～600oC可调)，特别适用于半导体器件和集成电路的钝化，用以提高器件和集成电路可靠性。目前，它已成为微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。产品特点： 1、膜质量高。它不同于通常使用的翻盖式单室机（易漏大气而