CVD涂层设备、CVD设备

时间：2020-01-05作者：上海晨鑫电炉有限公司浏览：1693

 我公司和中科院宁波材料所联合研制开发了产业化CVD装备及涂层。开发的CVD装备具有有效沉积容积大，气流均匀可控，温度均匀可控的特点。开发了相应的碳化硅，氮化钛复合硬质涂层和金刚石超硬涂层，并且可以调控涂层界面，具有涂层附着力强的特点。




上海晨鑫电炉有限公司


上海晨鑫电炉有限公司专注于工业电炉,真空热压炉,真空熔炼炉,Sps烧结系统,真空烧结炉,真空钎焊炉,实验烧结炉,真空双向加压炉等

• 词条

  词条说明

• 公司在苏州成立材料制备中心

  公司在苏州成立材料制备中心      2010年8月2日我公司同华东理工大学、四川大学、北京科技大学在风景秀丽的苏州组建了新材料实验基地，目前基地拥有国内先进的真空设备，如sps放电等离子烧结系统、真空物理纳米生产系统、真空中频熔炼炉、微波烧结炉、激光快速烧结系统以及自蔓延真空制粉系统，实验基地将以提供先进的材料制备系统，从制粉到制备各种样品全系

• 售后服务承诺

                                售后服务承诺 为创造**，提高企业**度，树立企

• CVD涂层设备、CVD设备

   我公司和中科院宁波材料所联合研制开发了产业化CVD装备及涂层。开发的CVD装备具有有效沉积容积大，气流均匀可控，温度均匀可控的特点。开发了相应的碳化硅，氮化钛复合硬质涂层和金刚石超硬涂层，并且可以调控涂层界面，具有涂层附着力强的特点。 上海晨鑫电炉有限公司