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    化学气相沉积技术的使用

    生产晶须:

    晶须属于一种以为发育的单晶体,它在符合材料范畴中有着很大的作用,能够用于生产一些新型复合材料。 化学气相沉积法在生产晶须时使用的是金属卤化物的氢还原性质。化学气相沉积法不但能制备出各类金属晶须,同时也能生产出化合物晶须,比如氧化铝、金刚砂、碳化钛晶须等等。

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    物理气相沉积和化学气相沉积的区别

    化学气相沉积过程中有化学反应,多种材料相互反应,生成新的的材料。

    物理气相沉积中没有化学反应,材料只是形态有改变。

    物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。

    化学杂质难以去除。优点可造金属膜、非金属膜,又可按要求制造多成分的合金膜,成膜速度快,膜的绕射性好

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    PCVD工艺的具体流程

    PCVD工艺的具体流程如下:

    (1)沉积。沉积过程借助低压等离子体使流进高纯度石英玻璃沉积管内的气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯中玻璃的组成成分。

    (2)熔缩。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对小断旋转的管子加热到大约2200℃,在表面张力的作用下,分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒(预制棒)。

    (3)套棒。为获得光纤芯层与包层材料的适当比例,将熔缩后的石英棒套入一根截面积经过精心挑选的管子中,这样装配后即可进行拉丝。

    (4)拉丝。套棒被安装在拉丝塔的**部,下端缓缓放入约2100℃的高温炉中,此端熔化后被拉成所需包层直径的光纤(通常为125 cm),并进行双层涂覆和紫外固化。

    (5)光纤测试。拉出的光纤要经过各种试,以确定光纤的几何、光学和机械性能。

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    沈阳鹏程真空技术有限责任公司专注于电阻热蒸发镀膜,磁控溅射,激光脉冲沉积,电子束等

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  • 徐州微型电弧炉公司的行业须知 沈阳鹏程真空技术公司

    电弧炉的主要特点 电弧炼钢炉以电能为主要能源。电能通过石墨电极与炉料放电拉弧,产生高达2000 ~ 6000℃以上的高温,以电弧辐射、温度对流和热传导的方式将废钢原料熔化。在炉料熔化时的大部分时间里,高温热源被炉料所包围,高温废气造成的热损失相对较少,因此热效率**转炉等其他炼钢设备。此外,电加热容易准确地控制炉温,可以根据工艺要求在氧化气氛或还原气氛、常压或真空等任何条件下进行加热操作。 电弧

  • 北京化学气相沉积设备欢迎来电“本信息长期有效”

    化学气相沉积的原理 沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售化学气相沉积,我们为您分析该产品的以下信息。 化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺,它大致包含三步: (1)形成挥发性物质 ; (2)把上述物质转移至沉积区域 ; (3)在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。

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  • 桌面式电弧炉多少钱常用解决方案「在线咨询」

    电弧炉 电弧炉(electric arc furnace)利用电极电弧产生的高温熔炼矿石和金属的电炉。气体放电形成电弧时能量很集中,弧区温度在3000℃以上。对于熔炼金属,电弧炉比其他炼钢炉工艺灵活性大,能有效地除去硫、磷等杂质,炉温容易控制,设备占地面积小,适于优质合金钢的熔炼。 以上就是关于电弧炉的相关内容介绍,如有需求,欢迎拨打图片上的热线电话! 电弧炉简介 想要了解更多电弧炉的相关内容,

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