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词条
词条说明
LPCVD设备维修及应用 低压化学气相淀积设备使用与维护技术 LPCVD是大规模集成电路(LSI)和**大规模集成电路(VLSI)以及半导体光电器件工艺领域里的主要工艺之一。 PCVD技术可以提高淀积薄膜的质量,使膜层具有均匀性好、缺陷密度低、台阶覆盖性好等优点,成为制备Si 3N4薄膜的主要方法。热壁LPCVD设备使用过程中出现薄膜的淀积速率、薄膜的均匀性、片内均匀性、片间均匀性不理想等问题,提
单管氧化炉技术方案 (单管程序氧化炉) &n
扩散炉由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。 控制系统 控制部分包括:温控器、功率部件、**温保护部件、系统控制。 系统控制部分有四个独立的计算机控制单元,分别控制每层炉管的推舟、炉温及气路部分,是扩散/氧化系统的控制中心。 扩散炉网络控制 辅助控制系统,包括推舟控制装置、保护电路、电路转接控制、三相电源指示灯、照明、净化及抽风开关等。 较先进的扩散炉控制系统均已更新或升级到微
双工位卧式真空炉 青岛福润德微电子设备有限公司 目 录 一、 设 备 特 点 二、 设 备 结 构
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