石英领

时间：2014-10-22

石英软领为进口石英纤维棉采用德国加工工艺制成，用于扩散炉和PECVD设备中炉体和石英管之间的隔热保温，解决了以往用保温棉存在的两大问题：一是保温棉长时间在高温下出现粉化脱落从而影响工作腔体洁净度，二是手动堵塞保温棉不均匀，影响工作区温度稳定性和均匀性。本产品可长期使用在高温下，不粉化，不变形，不硬化，不氧化，防震，防腐蚀。

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词条说明
LPCVD设备
LPCVD设备维修及应用低压化学气相淀积设备使用与维护技术 LPCVD是大规模集成电路(LSI)和**大规模集成电路(VLSI)以及半导体光电器件工艺领域里的主要工艺之一。 PCVD技术可以提高淀积薄膜的质量，使膜层具有均匀性好、缺陷密度低、台阶覆盖性好等优点，成为制备Si 3N4薄膜的主要方法。热壁LPCVD设备使用过程中出现薄膜的淀积速率、薄膜的均匀性、片内均匀性、片间均匀性不理想等问题，提
石英领
石英软领为进口石英纤维棉采用德国加工工艺制成，用于扩散炉和PECVD设备中炉体和石英管之间的隔热保温，解决了以往用保温棉存在的两大问题：一是保温棉长时间在高温下出现粉化脱落从而影响工作腔体洁净度，二是手动堵塞保温棉不均匀，影响工作区温度稳定性和均匀性。本产品可长期使用在高温下，不粉化，不变形，不硬化，不氧化，防震，防腐蚀。
等离子增强化学气相淀积系统(PECVD)
等离子增强化学气相淀积系统(PECVD) PECVD（等离子增强化学气相淀积）设备是一种用于在基片上生成高质量SiNx和SiO2薄膜的**设备。淀积温度范围宽( 100～600oC可调)，特别适用于半导体器件和集成电路的钝化，用以提高器件和集成电路可靠性。目前，它已成为微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。产品特点： 1、膜质量高。它不同于通常使用的翻盖式单室机（易漏大气而
立式真空炉
空炉（vacuum furnace）是真空环境中进行加热的设备。在金属罩壳或石英玻璃罩密封的炉膛中用管道与高真空泵系统联接。炉膛真空度可达133×(10-2～10-4)h。炉内加热系统可直接用电阻炉丝(如钨丝)通电加热，也可用高频感应加热。较高温度可达3000℃左右。主要用于陶瓷烧成、真空冶炼、电真空零件除气、退火、金属件的钎焊，以及陶瓷-金属封接等。目录 1概述 2构造 3原理 4功能 5