(1) 随着单体氧化槽设计的产量不断增高,相应地氧化电源的输出电流也设计得越来越大,目前国内单机输出已达28KA。传统的风冷式氧化电源由于效率散热效果差,可靠性低,噪音巨大,使用寿命短,其应用受到很大的限制,也已经不能满足氧化电源越来越大的功率输出要求,我们**在铝型材大功率表面处理电源中采用新型全密闭水冷的方式,取得了良好的应用效果。在影响装置可靠性的多种因素中,散热是至关重要的一个,特别是在大功率整流装置中,大功率半导体器件工作时所产生的热量,将导致芯片温度的升高,如果没有适当的散热措施,就可能使芯片的温度**过所允许的较高结温,从而导致器件性能的恶化以致损坏。新型全密闭水冷式铝型材氧化电源采用的是一种全水冷的方式,氧化电源设备中的晶闸管、二极管、整流变压器、汇流母排等均为水冷却方式,由此构筑了全密闭式循环水冷却系统。由于循环水不与大气直接接触,其热交换一般是通过水—水换热系统完成的,既避免了设备内部安装冷却风机的电能损耗,同时也避免了设备内元器件受到因空气交换带来的腐蚀性气体的腐蚀,可确保设备长期稳定地运行。在条件合适的地方,氧化电源的冷却水还可与工厂的冷却水系统统一设计,充分考虑能量的再回收和利用。
(2)传统的氧化槽供电方式一般采用单电源集中式供电,即将氧化电源安装放置在槽的某端,再从氧化电源输出处分别通过铝排或电缆接到氧化槽的两端。这样,靠近电源一端的槽端连接电缆或铝排长度就相对较短,而远离电源的槽端电缆或铝排就需要跨越整个槽体的长度,一般这个长度在10-20米之间,带来了氧化槽供电的不平衡。如果将槽两端的连接电缆或铝排的长度布置得完全一样,那就只能以远槽端的长度为准,造成了线路损耗的增加和材料上的浪费,安装上也不太方便。为了克服单电源集中式供电的缺点,改善氧化槽导电的均匀性,建议采用氧化槽两端双电源分布式供电的氧化电源,尤其是单台氧化电源输出电流要求在12KA以上是更是如此。两台氧化电源就近安装在槽的两端,每台电源的额定容量和实际输出都是完全一样的,配合自动化控制系统的设计,保证双电源输出的同步性和一致性,从而减少了导电排的连接和电压降,可实现更加节能的生产。因为槽两端双电源对称供电,氧化槽内的电流分布更加均匀,有效提高了氧化膜的品质。
(3)选择氧化电源时,其额定电压不宜过高,考虑母排输电损耗和电网压降等因素,一般按较大工作槽压的115%选择即可。铝氧化电源原国际通用的输出电压为24V,而实际使用仅为15~18V,就是按目前国内常用的22V,也高出不少,尤其是对双电源分布式供电的氧化电源更是如此,因为双电源供电的氧化槽的输电损耗更低。氧化电源设备额定电压选得过高,而实际使用电压较低时,晶闸管处在深控调压状态,设备谐波含量较高,设计容量也会更高,不利于降低设备的运行损耗和配套滤波补偿装置的容量。
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(1) 随着单体氧化槽设计的产量不断增高,相应地氧化电源的输出电流也设计得越来越大,目前国内单机输出已达28KA。传统的风冷式氧化电源由于效率散热效果差,可靠性低,噪音巨大,使用寿命短,其应用受到很大的限制,也已经不能满足氧化电源越来越大的功率输出要求,我们**在铝型材大功率表面处理电源中采用新型全密闭水冷的方式,取得了良好的应用效果。在影响装置可靠性的多种因素中,散热是至关重要的一个,特别是在大
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