纳米二氧化硅抛光液的应用

时间：2020-12-28

纳米二氧化硅抛光液的应用

由于纳米二氧化硅成本相对较低，且具有良好的分散性、机械磨损性，高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CM P技术用的抛光材料.，因而常被用于金属、蓝宝石、单晶硅、微晶玻璃、光导摄像管等表面精密抛光。
化学机械抛光（CMP）技术是目前各类显示屏、手机部件、蓝宝石、不锈钢、单晶硅片等领域使用广泛的表面加工技术，研磨抛光材料是化学机械抛光过程中必不可少的一种耗材，常用的研抛材料有氧化铈、氧化硅、氧化铝和金刚石(钻石)。氧化铈主要用于玻璃晶体等抛光，金刚石与氧化铝主要用于高硬度晶体的抛光，而纳米二氧化硅抛光液主要用于许多材料表面抛光。这几种材料往往可以搭配使用，组成研磨-抛光的理想材料。本次介绍下纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）的应用。
(晶瑞纳米材料 微芯：gzjr88.)
纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）应用特性：
1、纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）由高纯纳米二氧化硅复合配置而成，通过高科技术分散成纳米颗粒，高含量分散均匀的纳米抛光液。
2、抛光速平坦度加工，抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子，不会对加工件造成物理损伤，速率快，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的
3、高纯度，抛光液不腐蚀设备，使用性能高。
4、高达到高平坦化研磨加工。
5、有效减少抛光后的表面划伤，降低抛光后的表面粗糙度。
   纳米二氧化硅抛光液（VK-SP50W）使用范围：
1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。
2、用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圆的后道ＣＭＰ清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程。
4、广泛用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工。
5、本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。
指标：
型号	外观	粒径	含量	应用
VK-SP50W	白色乳液	50nm	20-30%	抛光
VK-SP50F抛光粉	白色粉体	50nm	99.8	抛光

词条
词条说明
浅谈纳米二氧化锡在锂电池中的应用
浅谈纳米二氧化锡在锂电池中的应用纳米二氧化锡(VK-Sn30)由于对可见光具有良好的通透性，在水溶液中具有优良的化学稳定性，且具有特定的导电性和反射红外线辐射的特性，因此在锂电池领域也被广泛应用。纳米二氧化锡(VK-Sn30)是一种锂离子电池阳极材料。它不同于以往的碳阳极材料，是一种无定型的，同时又有金属元素存在的无机体系，微观结构是纳米级的无定型二氧化锡颗粒组成。纳米二氧化锡具有其*特的嵌锂
纳米氧化镁在锂电池中的作用
纳米氧化镁在锂电池中的作用锂离子电池在使用的过程中，能够进行二次充电，属于一种二次可充电电池，主要工作原理为锂离子在正负极之间的反复移动，无论电池的形状如何，其主要组成部分都为电解液、正极片、负极片以及隔膜。目前，国际上锂离子电池的生产地主要集中在中国、日本和韩国，主要的锂离子应用市场为手机和电脑及电车。图一随着锂离子电池的不断发展，应用领域也在逐渐的扩大，其在正极材料的使用方面已经由单一化
纳米二氧化钛在污水处理中的应用
纳米二氧化钛在污水处理中的应用纳米二氧化钛作为一种重要的光催化材料，由于具有化学性质稳定、高活高等优点 1972年，日本学者Fujishima和Honda在《Nature》上报道了在n型半导体TiO2单晶电极上光致分解H2O产生H2和O2的现象，这一报道使得半导体光催化氧化还原技术，在污水处理等方面的应用受到广泛关注，并得到了迅速发展。大量研究证实，染料、表面活性剂、**卤化物、农药、油类、氰化
纳米氧化锌水分散液在纺织上浆的应用
纳米氧化锌水分散液在纺织上浆的应用纺织浆料是纺织品生产过程中一种不可缺少的高分子材料。近年来我们每年消耗的纺织浆料中淀粉类浆料约占70%, PVA浆料约占20%，聚丙烯酸（酯）类浆料约为 10%。 PVA浆料具有优良的成膜性、粘附性及与其他材料相容的特点，然而PVA的COD值（耗氧量）较高，溶解性差，需高温烧煮2〜3小时，费时耗能；浆液的流动性很差，粘附性不足，易结皮形成浆斑，而且退浆比较困