等离子清洗机去除孔壁残留胶

    等离子清洗设备能有效地清除孔壁残留胶,达到清洁、活化、均匀蚀刻的效果。有利于内线与孔壁镀铜层的连接,提高粘结力。

    等离子清洗机通过对材料表面进行改性,可以改善表面亲水性,去除表面**物,从而对多种材料进行适配、涂膜、镀层等操作。等离子清洗机有着广泛的社会应用需求,从表面微加工到表面处理的改进。

    等离子清洗机有几种称谓,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。等离子清洗机/等离子处理机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。等离子清洗机能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力

    等离子清洗机的应用包括处理、灰化/光刻胶/聚合物去除、介电质刻蚀等等。使用等离子清洗机不仅能去除光刻胶和其他**物,而且活化晶圆表面,提高晶圆表面浸润性。只需要通过等离子清洗设备的简单处理,就能将自由基高分子聚合物全去除干净,包括藏在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物。达到其他清理方式很难完成的效果。
     在半导体器件生产过程中,晶圆芯片表面会存在各种微粒、金属离子、**物及残留等沾污杂质,为避免污染物对芯片处理性能造成严重影响及缺陷,在保证不破坏芯片处理及其他表面特性的前提下,半导体晶圆在制造的过程中,需要经过多次的表面清洗步骤,而等离子清洗机是晶圆光刻胶的理想清洗设备。

    等离子清洗机产生的等离子体在电场下加速,从而在电场作用下高速运动,对物体表面发生物理碰撞,等离子的能量足以去除各种污染物。等离子清洗不需要其他的原料,只要空气就能够满足要求,使用方便而且没有污染,等离子清洗机不但可以进行表面清洗,重要的是可以提高表面活性,等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团,这些化学集团有很高的活性,从而应用范围很广,比如提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,邦定性,亲水性等等很多方面

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