透明导电薄膜(TCF)广泛用于现代电子设备中。这些薄的导电薄膜在沉积在玻璃、硅或聚合物基板上时可以带电。TCF可用作OLED和太阳能电池的电极,或者用于您较喜欢的手机触摸屏上的导电层。
图1:透明导电膜(TCF)是所有触摸屏技术的基础
在TCF中,氧化铟锡(ITO)因其出色的透明度和电气特性而成为行业标准。较近的材料,如氧化石墨烯(GO)或PEDOT,由于它们比ITO更*弯曲,因此在柔性电子产品方面显示出巨大的前景。
透明导电膜的图案化
这些导电层的图案化是一个非常重要的制造过程,他可以去除掉某些部分,凸显功能化和表面的电气特性,并根据应用项目在该层上创建电路。与光刻相比,激光图案化是一种未来很有前途的解决方案,因为它可以灵活地定制具有非常高的通光量的图案化,同时节省预处理步骤所产生的消耗。
对于TCF的激光图案化而言,较大的挑战之一是:要在不影响底层基板(玻璃、聚合物、硅等)的情况下选择性地去除薄膜。根据沉积工艺或应用,还可能优选去除基板上方的TCF层(正面处理)或穿过基板(背面处理),如图2所示。
图2:TCF激光图案化的两种方法:正面和背面加工
选择中红外激光器对薄膜进行激光图案化
为了克服对薄膜进行激光图案化的挑战,Femtum开发了一种新的2.8µm中红外脉冲光纤激光器,用于选择性的去除不同基材上的透明导电薄膜。
中红外纳秒激光器是薄膜图案化的理想选择,因为大多数导电薄膜基于氧化物材料,在3µm左右的波长处具有强烈吸收。与紫外或近红外激光图案化相比,在不影响衬底的情况下,更*的能选择性地去除不需要的薄膜层,衬底在这些中红外波长下具有更高的烧蚀阈值。
图3显示了使用FemtumNano2800nm激光器使用正面和背面处理方法在PET上形成ITO图案的示例。
图3:使用FemtumNano2800纳秒脉冲激光器激光器对PET进行氧化铟锡(ITO膜)加工。前处理和后处理不会对PET基材造成任何损坏。
由于FemtumNano2800具有出色的光束质量,还可以实现具有小特征尺寸(约10µm)的精确图案化,如图4所示。
图4:ITO在PET上的精确图案化,尺寸为12um
使用这种多功能的工业光纤激光器,在各种基材上加工纳米银线透明导电薄膜(TCF),如柔性聚合物(PET、PMMA、聚酰亚胺等)或其他中红外透明基材(硅、锗),可以开辟更加广泛的应用。
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词条说明
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