ITO靶材主要难点

时间：2022-09-18

作者：东莞市鼎伟新材料有限公司

（一）粉末制备

粉末冶金较核心的竞争力就是粉体，能够独立生产高品质稳定的粉体的公司，会在未来占有一席之地。

（二）大尺寸烧结工艺

ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺，精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。烧结工艺细分为真空热压法、热等静压法、常压烧结法。目前高端显示器用镀膜靶材主要采用常压烧结法，性价比高。

（三）成本投入较大

ITO生产中需要使用非常多的大型设备，如冷压机，大型模压机，烧结炉，加工设备及绑定设备，每一项的投入都非常大。整厂的设备投入预计在5000万以上（年产50吨），且因为是能耗大户，日常的能源消耗也是非常可观的，运营维护成本也比较高。

（四）产品的验证

如何能够自主的验证产品是否符合客户的使用需求，是产品能否一次通过客户验证并且顺利导入生产的关键因素，所以企业自己配套绑定检测设备及镀膜机就是保证。

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