直读光谱仪,目前常用的光源有以下两种:一是经典光源包括电弧及火花光源,二是等离子体光源居多。其中在冶金分析中广泛应用的有高压控波光源、低压火花高速光源和高能预火花光源。那么光谱分析常用光源的放电方式有哪些呢?
1. 高能预火花放电较大电流可达150安和燃烧时间为150微秒,这样使试样中燃烧斑点内的组织结构更加均匀,由此来消除元素之间干扰及元素之间结合等效应。
2.火花型放电对大多数元素重现性好。
3.电弧型放电重现性要比火花放电差2—3倍,但对痕量元素检出限要低得多。
因此在选择光源时应尽量满足以下要求:
1.高灵敏度,随着样品中元素浓度微小变化,其检出的信号有较大的变化;
2.低检出限,能对微量及痕量成分进行检验;
3.良好的稳定性,试样能稳定的蒸发、原子化和激发,使结果具有较高的精密度:
4.谱线强度与背景强度之比大(信噪比大);
5. 分析速度快,预燃时间短;
6.构造简单,容易操作,安全;
7.自吸收效应小,校准曲线的线性范围宽。
光源激发条件的选择是由分析对象经过试验来决定的。不同的试样在不同的光源下,它的预燃时间是不一样的,因为试样在火花放电时的蒸发过程,它不仅与光源的能量、放电气氛密切有关以外,还与试样组成、结构状态、夹杂物种类、大小等等密切有关。
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