小型溅射仪问题解答

时间：2023-10-07作者：郑州科探仪器设备有限公司浏览：41

小型溅射仪仪问仪答

较近小伙伴对于溅射仪使用和技术参数问的问题比较多，今天总结一下溅射仪的一些常见的技术问题：




1、膜厚检测仪原理：膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上先进的数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。




2、溅射仪是否可以镀镍：可以镀镍  但是 镍是导磁金属 所以 需要靶材尽量薄 0.5mm-1mm较好  太厚磁场无法穿透  溅射速率很低。




3、直流溅射镀膜调节：1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件  可以镀    2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色。




郑科探小型溅射仪KT-Z1650PVD

以上是小近期问的比较多的问题，如果还有什么问题欢迎咨询。


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  词条说明

• 磁控溅射技术原理及应用简介

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  1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质，挡板可以保护样品，提高薄膜质量3、带有水冷系统，可以长时间溅射镀膜，厚度可达1微米以上。4、直流磁控溅射，提高附着力，溅射速率快，比离子溅射快上一个量级。针对某些金属较快能达到1-2纳米每秒，5、不但可以电镜制样，还可以制作金属电极。6、可扩展膜厚监测，监测薄膜厚度。溅射仪使用需注1 靶材需要