【半导体芯片清洗剂】碳氢清洗剂和水基清洗剂的区别

时间：2021-07-08

碳氢清洗剂和水基清洗剂的区别

碳氢清洗剂

碳氢清洗剂是**溶剂清洗剂的一种。

**溶剂清洗剂指成分中不含有水的**类溶剂，而碳氢清洗剂是只由碳和氢两种元素作为主体的清洗剂。碳氢清洗剂具有良好的环保特性和清洗能力，在国家逐步限制并较终彻底淘汰ODS(破坏臭氧物质)清洗剂的情况下，碳氢清洗剂是目前替代和淘汰ODS的较佳**溶剂，碳氢清洗剂和真空清洗干燥机相配合的碳氢清洗技术已经成为清洗行业的主流。

碳氢清洗剂具有清洗性能好、蒸发损失少、无毒、与材料相容性好并且可彻底挥发、价格实惠等优势。

另外，碳氢清洗剂可以自然降解，清洗废液可以经蒸馏回收、循环利用，或者放入燃煤或燃油锅炉中焚烧，焚烧的生成物主要为CO2和水，对空气没有污染。碳氢清洗剂中不含氯，对臭氧的破坏系数为零。

水基清洗剂

主要是一些碱性较强的无机碱或无机盐，如氢氧化钠、碳酸钠、硅酸盐、磷酸盐等。具有安全、环保且经济成本较低廉等特点。

但由于水基清洗剂成分单一、稳定性较差、微加热条件下工艺复杂等原因所以其清洗效果比**溶剂差，较适合普通大众化清洗作业。

另外，在废液处理处理方面水基清洗剂废液需要通过一些特殊处理才可以达到国家标准。

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