水基清洗剂的概念与背景
(一) 概念:
水基清洗剂是一种清洗媒介,是以去离子水作为主溶剂,与表面活性剂、助溶剂、添加剂等组合而成,借助于含有的表面活性剂、乳化剂、渗透剂等的润湿、乳化、渗透、分散、增溶等作用来实现对污染物的清洗。根据IPC-CH-65B CN《印制板及组件清洗指南》中的定位,水基清洗剂中去离子水不少于50%,水基清洗剂是以纯水或者**或者无机皂化剂对组件进行**道清洗,然后以纯水冲洗掉(即漂洗)组件上的污水的一种制程。
(二)产生背景:
1. 日益严格的环保管控
1988年9月签订了“蒙特利尔协定书”之后,中国从2010年全面停止氯氟烃(即CFC)和Halon两大类主要ODS(消耗臭氧层物质)的生产和使用。水基清洗剂得到*发展,甚至成为取代CFC材料的*性选择。
2010年,ROHS 2.0版本更新
REACH法规管控物质不断递增。
《蒙特利尔公约》、ROHS法规、REACH、SS-00259等相关环保法规持续更新,管控的物质越来越多。
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