等离子清洗机去除光学元件**污染物

时间：2022-03-30

等离子处理机不但可以进行表面清洗，还可以提高表面活性，等离子体与物体表面进行化学反应能够产生活性化学集团，应用范围很广，比如提高材料表面粘接能力，提高焊接能力，邦定性，亲水性等等很多方面。

等离子清洗机Plasma Cleaner又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合，通过等离子清洗机的表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除**污染物、油污或油脂.

光学元件等离子体清洗机目的是去除附着的**污染物，恢复元件的光学性能和表面形貌，同时不能降低其抗污染性能。

等离子体清洗机主要是基于等离子体放电产生的大量活性粒子，在一定条件下，这些活性粒子会与被清洗物体表面污染物发生反应，达到清洗的效果。

等离子体清洗机主要分成两个反应过程。在化学反应过程中，活性粒子与**分子结合，发生解链，中间形成新的不稳定基团，分解成易挥发的二氧化碳和水；在物理反应过程中，活性粒子在电场作用下，以一定速度和能量撞击被清洗物体表面，克服分子与表面的结合力，使表面污染物分子分解或脱落，达到清洗的目的。等离子清洗机有利于清洗表面具有疏松多孔结构镀层的光学元件。

低温等离子体清洗机可以有效恢复光学元件的选择透过性能和抗激光损伤性能；可以有效去除光学元件表面附着的**污染物，不会造成二次污染；可以有效恢复光学元件的表面形貌，实现对光学元件的全面恢复效果。

低温等离子体清洗机不会改变光学元件增透膜成分，反应过程中会形成表面羟基，使元件表面自由能及其级性分量提高，显著增强元件的表面润湿性；不会损伤光学元件，并且可以提高元件的抗**物污染能力。

等离子清洗机与湿法清洗工艺相比，等离子清洗机不需要使用强酸、强碱等溶液，不需要后期的烘干过程，也无废水处理的要求，是一种简单经济环保、**次污染的清洗方法。

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词条
词条说明
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