等离子清洗机去除晶圆Wafer光刻胶

    等离子清洗机能去除晶圆表面肉眼看不到的表面污染物,使得晶圆表面变得清洁并具亲水性

    芯片制作完成后残余的光刻胶无法用湿式法清洗,只能通过等离子清洗机进行去除,晶圆级封装前等离子清洗机处理的目的是去除表面的无机物,还原氧化层,增加铜表面的粗糙度,提高产品的可靠性。

    等离子清洗Plasma Cleaner又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机等离子活化机Plasma清洗机等离子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场合,通过等离子清洗机的表面处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除**污染物、油污或油脂.


    等离子清洗机在半导体晶圆清洗工艺上的应用
    等离子体清洗具有工艺简单、操作方便、没有废料处理和环境污染等问题。等离子清洗机常用于光刻胶的去除工艺中,在等离子体反应系统中通入少量的氧气,在强电场作用下,使氧气产生等离子体,迅速使光刻胶氧化成为可挥发性气体状态物质被抽走。等离子清洗机在去胶工艺中具有操作方便、表面干净、无划伤、有利于确保产品的质量等优点,而且等离子清洗机不用酸、碱及**溶剂等,


    等离子清洗机对晶圆光刻胶的应用:等离子清洗机的应用包括处理、灰化/光刻胶/聚合物去除、介电质刻蚀等等。使用等离子清洗机不仅去除光刻胶和其他**物,而且活化晶圆表面,提高晶圆表面浸润性。只需要通过等离子清洗设备的简单处理,就能将自由基将高分子聚合物去除干净,包括在很深且狭窄尖锐的沟槽里的聚合物。达到其他清理方式很难完成的效果






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