磁控溅射镀膜设备

时间：2022-02-28作者：广东振华科技股份有限公司广东广州分公司浏览：156

        该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体，对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求，可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置，其靶位分布可灵活调整，膜层均匀性优越，配备不同的靶材，可镀制出性能更好的复合膜层。设备所镀制的膜层具有附着力强，致密性高的优点，可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨性及产品表面硬度，满足了高性能膜层制备的需求。

设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质，可制备Tin/TiCN/TiC/TiO/TiAIN/CrN/ZrN/CrC等金属化合物膜层，可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。该系列设备主要用于电子产品五金件、钟表、首饰、皮具五金件等。


广东振华科技股份有限公司广东广州分公司专注于真空镀膜,真空镀膜设备,真空镀膜生产商等

• 词条

  词条说明

• 多弧离子真空镀膜技术特点

  离子镀的原理：离子镀是在真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者**结合起来， 不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜 附着力 强，绕射性好，膜材广泛等。多弧离子镀工艺的**特点是我们可以通过产生由高度电离的蒸发物质文化组成的等离子体，其中离子之间

• 影响磁控溅射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金属化合物的形成由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。在基片表面生成化合物是我们的目的，在其

• PVD涂层对工件表面的要求

  工件或工具表面的条件对涂层的性能有决定性影响。要想有质量良好的涂层，工件需经研磨或抛光，并针对运输进行防腐处理。一、研磨的表面不能出现浅裂纹、氧化皮或再硬化烧伤。 二、研磨期间使用的冷却液不能包含任何磺酸钙、硼或碘化合物、或含硅的消泡剂。 三、研磨过的表面、用磨刀石磨过的表面、抛光的表面或用磨盘磨过的表面必须没有研磨剂和残余物。 四、刀刃必须无毛刺，以便它们不会在**次使用时断裂。 五、在EDM（

• 真空镀膜技术及设备

  真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等，从而获得光亮、美观、**的塑料，陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装潢装饰，灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女士鞋后跟等领域。磁控溅射镀膜设备及技术可以再金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷）的工件镀金属铝、铜、钛金、锆、银、不锈钢、镍、钼、硅、钛铝及金属反应物（氧化物、氮化物、炭化物）、