立式溅射镀膜设备的优势及应用行业

时间：2022-03-12作者：广东振华科技股份有限公司广东广州分公司浏览：50

立式溅射镀膜设备的特点：

1、在真空条件下制备镀膜环境清洁，膜层不易受污染，可获得致密性好，纯度高，膜层厚度均匀，易于控制的涂层。

2、膜材的基体材料有广泛的选择性，可制备各种不同的功能性涂层。

3、膜的附着强度高，膜层十分牢固，不易脱落。

4、在工艺过程中不产生废液，减少环境污染，减少对人体有害的金属物体，较大程度上实现绿色环保生产。

其中之一的汽车行业

该设备的设计为立式双门的结构，是一款直流磁控溅射镀膜技术、电阻蒸发镀膜技术、CVD镀膜技术及中频离子清洗系统相结合的复合型设备，适应客户复杂的产品工艺切换；真空室内可一次性完成金属镀膜及保护膜制程，防止了二次工序污染。

立式溅射镀膜设备的优势在于该设备占地面积小，无待机时间， 生产效率高，膜层均匀性好，光洁度高。应用范围也广。设备可用于车灯、车标、车内饰件等不同的产品，可镀制金属膜层，如Ti，Cu，Al，Cr，Ni，SUS，Sn，In等多种材料，可以镀制多种金属膜层，不受镀膜材料的限制。 


广东振华科技股份有限公司广东广州分公司专注于真空镀膜,真空镀膜设备,真空镀膜生产商等

• 词条

  词条说明

• 影响磁控溅射中靶中毒的因素有哪些？

  一、靶面金属化合物的形成由金属靶面通过反应溅射工艺形成化合物的过程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反应气体粒子与靶面原子相碰撞产生化学反应生成化合物原子，通常是放热反应，反应生成热必须有传导出去的途径，否则该化学反应无法继续进行。在真空条件下气体之间不可能进行热传导，所以化学反应必须在一个固体表面进行。反应溅射生成物在靶表面、基片表面、和其他结构表面进行。在基片表面生成化合物是我们的目的，在其

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  在真空镀膜技术中，磁控溅射镀膜技术属于比较常见的一种镀膜技术。今天，广东真空镀膜设备厂家就告诉大家，磁控溅射镀膜技术的优点和缺点： 1、沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小； 2、对于大部分材料，只要能制成靶材，就可以实现溅射； 3、溅射所获得的薄膜与基片结合较好； 4、溅射所获得的薄膜纯度高、致密度好、成膜均匀性好； 5、溅射工艺可重复性好，可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜； 6、能够控制