在工业生产过程中,物料或是设备不可避免的会产生热量,需要一种制冷设备来对这部分热量进行交换,带走多余热量,使物料或是设备在一个恒定的温度状态下生产。
1、压缩机故障:电容烧坏,线圈绕组异常等引起;
2、水泵故障:水质差或者异物引起,交流接触器过载、电容烧坏等引起
3、制冷故障:制冷剂不足、压缩机故障、节流孔板故障、冷凝器脏堵散热效果差等问题;
4、电控故障:高压保护继电器受潮、接触不良或损坏,单元电子板受潮或损坏,通信故障,电源相电压不平衡,电源线路电压降大等问题
5、当压缩机因某种原因发生故障时,此时水泵如继续运行,可能会造成水温急速升高,而当水温**过50度时,机内水管及水泵轴封可能造成损坏漏水。
6、如果发现制冷机部分浸于水中,立即停止运行,速将水箱内水排除,请专业人士进行处理,以免压缩机将水吸入系统造成更严重损坏。一般我们先将漏制冷剂的地方,进行补漏或处理,再更换干燥剂,重新真空处理,充灌适当制冷剂。
10千瓦风冷冷水机在工作运行中因工作环境恶劣、热负荷过大、操作不当和不及时维护保养等原因会出现故障,造成工作效率低、设备损坏和使用寿命等问题。所以了解10千瓦风冷冷水机常见的故障,做好10千瓦风冷冷水机维护和维修是使用人员日常工作内容。
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词条说明
(一)制药:合成,水解,酯化,醚化等需要控温的工艺。在生物科技中,温度的控制对于研发质量和生产的结果都起到决定性的作用。生物反应器的恒温控制对于成功的生产起到至关重要的作用。作为样品制备的组成部分,有很多的生产步骤需要可靠的温度控制。(二)化工:精馏提纯、橡胶粉碎、低温研磨、化学合成。在化学领域的诸多工艺过程中,温度在工艺工程、反应釜温度控制方面起到了重要的作用。化学反应、合成、药物基本组分的生产
随着半导体行业技术的发展,半导体行业对设备的要求也越来越高。其中,多晶硅刻蚀双通道chiller冷却设备是半导体制造过程中的一种设备,在半导体制造过程中,需要将芯片冷却到低的温度,以确保其性能和稳定性。 其中,多晶硅刻蚀双通道chiller是一种常见的半导体冷却设备。它通过将冷却剂循环使用,将芯片冷却到所需的温度范围。多晶硅刻蚀双通道chiller的主要功能是提供稳定的温度控制,以确保芯片在制造
动态温度控制系统广泛应用于化学、生物医药、材料科学、环境科学以及半导体制造等领域,下面将详细介绍动态温度控制系统的使用方法。 一、动态温度控制系统使用前的准备 选择合适的温度范围和控制精度:根据实验或生产的具体需求,选择合适的温度范围和控制精度。 检查设备:确保动态温度控制系统外观无损坏,各部件连接紧密,无松动或泄漏现象。 准备介质:根据动态温度控制系统要求,选择合适的导热油或其他介质作为传热介
造成-135℃水汽深冷冷冻机制冷压缩机排气过热的原因有哪些?其实要原因有以下几种:回气温度高、电机加热量大、压缩比高、冷凝压力高、制冷剂选择不当。那么,就让小编来为大家讲解一下。 1、回气温度高:回气温度高低是相对于蒸发温度为而言的。为了防止回液,一般回气管路都要求20度的回气过热度。如果回气管路保温不好,过热度就远远**过20度。 2、电机加热:对于回气冷却型压缩机,制冷剂蒸气在流经电机腔时被电
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