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美国 HVA 真空闸阀在气体管路系统应用
半导体工厂, 太阳能光伏, LED, 镀膜等行业在工艺制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊气体, 气体管路系统(真空管路)的作用是把各种气体在满足工艺制程要求的纯度, 压力和流量的前提下安全稳定的供应到工艺设备内. 美国 HVA 真空闸阀广泛用在气体输送环节 (气体管路系统) , 起到真空隔离密封作用.
美国 HVA **过40年的阀门研发生产经验, 上海伯东美国 HVA 闸阀口径 DN 16 至 800 mm, 手动或气动控制, **高真空 1x10-10 mbar, 与友厂对比, HVA 闸阀阀体和部件均是在真空炉中一体钎焊完成, 了虚漏的可能, 小漏率 < 2x10-9 mbar l/S, 使用寿命 1,000,000 次(启闭次数). 上海伯东是美国 HVA 真空阀门在中国地区一总代理商.
请联络上海伯东邓女士,分机134
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词条说明
因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。HVA 高真空闸阀应用于 OLED 镀膜机OLED 镀膜机主要面向半导体照明客户, 需要镀膜机性能稳定, 器件效率高, 性价比高,HVA 高真空闸阀应用一般科研用镀膜机的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求达到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 这时需要配置分子泵系统或低温泵
某品牌 Sputtering + E-Beam PVD 镀膜机系统采用 HVA 真空阀门 11000, HVA 真空阀门安装在分子泵口便于泵的检修,同时外系统停机时不破坏系统真空, 只要对泵内部进行破真空即可.E-Beam 镀膜机设备组成: 系统主要由蒸发室, 电子, 进样室 
上海伯东代理美国 KRi 考夫曼离子源适用于安装在 MBE 分子束外延, 溅射和蒸发系统, PLD 脉冲激光系统等, 在沉积前用离子轰击表面, 进行预清洁 Pre-clean 的工艺, 对基材表面物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!KRi 离子源预清洁可以实现去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附气体, 碳氢化合物残留去除化学吸附污
某 Sputtering + E-Beam PVD 镀膜机系统采用 HVA 真空阀门 11000, HVA 真空阀门安装在分子泵口便于泵的检修,同时外系统停机时不破坏系统真空, 只要对泵内部进行破真空即可.HVA 不锈钢真空闸阀 11000 系列标准技术规格: 阀门材质:&nb
公司名: 伯东企业(上海)有限公司
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