聚焦离子束,Focused Ion beam 服务介绍:FIB(聚焦离子束,Focused Ion beam)是将液态金属离子源产生的离子束经过离子枪加速,聚焦后照射于样品表面产生二次电子信号取得电子像,此功能与SEM(扫描电子显微镜)相似,或用强电流离子束对表面原子进行剥离,以完成微、纳米级表面形貌加工。 服务范围:工业和理论材料研究,半导体,数据存储,自然资源等领域 服务内容:1.芯片电路修改和布局验证 2.Cross-Section截面分析 3.Probing Pad 4.**切割 芯片失效分析实验室介绍,能够依据国际、国内和行业标准实施检测工作,开展从底层芯片到实际产品,从物理到逻辑全面的检测工作,提供芯片预处理、侧信道攻击、光攻击、侵入式攻击、环境、电压毛刺攻击、电磁注入、放射线注入、物理安全、逻辑安全、功能、兼容性和多点激光注入等安全检测服务,同时可开展模拟重现智能产品失效的现象,找出失效原因的失效分析检测服务,主要包括点针工作站(Probe Station)、反应离子刻蚀(RIE)、微漏电侦测系统(EMMI)、X-Ray检测,缺陷切割观察系统(FIB系统)等
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《晶柱切片后处理》 硅晶柱长成后,整个晶圆的制作才到了一半,接下必须将晶柱做裁切与检测,裁切掉头尾的晶棒将会进行外径研磨、切片等一连串的处理,最后才能成为一片片价值非凡的晶圆,以下将对晶柱的后处理制程做介绍。 切片(Slicing) 长久以来经援切片都是采用内径锯,其锯片是一环状薄叶片,内径边缘镶有钻石颗粒,晶棒在切片前预先黏贴一石墨板,不仅有利于切片的夹持,更可以避免在最后切断阶段时锯片离开晶棒
扫描电镜SEM你了解吗?扫描电子显微镜SEM应用范围: 1、材料表面形貌分析,微区形貌观察 2、各种材料形状、大小、表面、断面、粒径分布分析 3、各种薄膜样品表面形貌观察、薄膜粗糙度及膜厚分析 扫描电子显微镜样品制备比透射电镜样品制备简单,不需要包埋和切片。 样品要求: 样品必须是固体;满足无毒,无放射性,无污染,无磁,无水,成分稳定要求。 制备原则: 表面受到污染的试样,要在不破坏试样表面结构的
晶圆代工迎来新的黄金期 近期,以台积电为代表的几大晶圆代工厂备受关注,原因在于它们2020年**季度的财报。与各大IDM和Fabless**和*二季度低迷的财报或财测不同,台积电、联电和中芯国际这三大晶圆代工厂的业绩十分亮眼,与当下疫情给半导体产业带来的负面影响形成了鲜明的对比。看来,晶圆代工(Foundry)这种商业模式确有其过人之处。 2019年10月,DIGITIMES Research预估
不可思议的芯片技术 《论语·学而》当中有一句话叫“如切如磋、如琢如磨”。宋代的大学者朱熹有这样的注语:“严治骨角者,即切之而复蹉之;治玉石者,既琢之而复磨之,治之已精,而益求其精业”。这句话的意思也就是精益求精,这个词用在集成电路或者芯片上是较贴切不过的。 下图是2007年国际半导体技术路线图。图中纵轴指的是可以沿着摩尔定律一直不断的微缩下去,到今天为止,工艺技术节点已经来到了7nm,很快5nm也
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