烈日炎炎,热情满心间!后疫情时代,NANO-MASTER工程师步履不停,一站接一站为客户提供设备安装调试服务。首站福州大学,那诺-马斯特工程师已顺利安装验收NIE-3500型离子束刻蚀机!
性能配置:
离子束刻蚀机用于刻蚀金属和介质,z大可支持6”晶圆。
配套美国考夫曼-罗宾逊 KDC160离子枪,650mA,100-1200V。刻蚀速率:~250A/min对Au;刻蚀均匀度:对4”片,片内均匀性优于±3%,重复性优于±3%。
样品台可旋转,转速0-30RPM精确可控;可任意角度倾斜,支持斜齿刻蚀;带水冷功能,刻蚀后易去除光刻胶。
极限真空12小时可达6x10-7Torr,15分钟可达10-6Torr量级的真空;采用双真空计,长期可靠,使用稳定。
14”不锈钢立方腔体,配套一台主控计算机,20”触摸屏监控,配合Labview软件,实现计算机全自动工艺控制,并可在电源中断情况下安全恢复;完全的安全联锁;支持百级**净间使用。
验收培训:
安装调试视频:
词条
词条说明
Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积(PECVD)系统应用范围广泛,包含:基片或粉体的等离子诱导表面改性等离子清洗粉体或颗粒表面等离子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的选择性生长单晶或多晶金刚石生长 微波模块:NANO-MASTER高质量**命远程微波源,频率为2.45GH,微波发射功率可以自主调节,微波反射功率可通过调节降
广西师范大学RIE反应离子刻蚀机顺利验收近日,NANO-MASTER工程师至广西师范大学,顺利安装验收NRE-3000型RIE反应离子刻蚀系统!详细参数:1. 腔体:10”直径的圆柱形腔体;阳极氧化铝材质,抗腐蚀性强;上下盖设计,气动升降顶盖,一键实现上盖的开启/闭合;淋浴头设计,较佳的气流均匀分布2. 样品台:4”样品台;冷却功能;偏压功能,支持各向异性的垂直刻蚀;3. 质量流量控制
近日,NANO-MASTER工程师至浙江ZN硅业有限公司,顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备!NANO-MASTER的PECVD系统能够沉积高质量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可应用于等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。根据不同应用,可选用RF、HCP、ICP或MW微波等多种规格的离子源。标准样品台尺寸有6”和8”可选,较高可定制到1
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公司名: 那诺-马斯特中国有限公司
联系人: 张经理
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