KRI 离子源应用于舞台灯光滤光片镀膜

时间：2024-01-10

舞台灯光虽然呈现是五颜六色的, 但光源一般都是白色. 通过在光源前加上特定的光学滤光片, 对光进行“加工”, 反射和透过特定的波段, 来达到不同的色彩变化. 加上颜色滤光片, 让不同颜色的镜片不停切换, 产生不同颜色. 而在光学元件或立基板上, 镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合, 即光学薄膜, 可以改变光波之传递特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变.

上海伯东某客户为舞台灯光设备生产商, 经过伯东选用国产镀膜机加装美国进口 KRi 射频离子源进行辅助镀膜, 保证工艺效果, 提高生产效率.

KRi 射频离子源应用于舞台灯光滤光片镀膜

客户之前使用其他国产机台镀制, 蒙雾且温漂大, 达不到客户要求.

上海伯东美国进口KRI离子源辅助国产镀膜设备镀制舞台灯光滤光片, 透亮且温漂小, 满足客户降低生产成本、提高产品质量的需求, 为国内镀膜厂家进行工艺升级提供新方向！

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间长! 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数：

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

上海伯东是美国Gel-pak 芯片包装盒, 日本 NS 离子蚀刻机, 德国 Pfeiffer 真空设备, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 比利时进口 Europlasma 等离子表面处理机和美国 Ambrell 感应加热设备等进口的代理商 .我们真诚期待与您的合作!

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐

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词条说明
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