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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220溅射沉积 ZrAlN薄膜
合金化是提高过渡族金属氮化物薄膜硬度及抗磨损、耐腐蚀性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高温氧化性能。 北京某大学实验室在对硬韧 ZrAlN 薄膜及薄膜力学性能研究中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助磁控溅射沉积的方法在钛合金和单晶 Si 上沉积不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
上海伯东是德国普发 Pfeiffer 授权销售维修中心, 自 2002年以来, 已累计为过 100, 000+ 家企业提供维修保养服务, 客户遍布工业, 科研, 镀膜和半导体行业, 维修中心使用 100 % Pfeiffer 原厂部件和原装进口检测设备对维修产品做全方面的性能测试, 上海伯东拥有完全的拆解, 维修能力, 提供快速, 高质量的维修保养服务. 伯东公司在上海, 台
因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。美国 HVA 真空阀门应用于亚洲大的粒子系统上海伯东代理的美国 HVA 真空阀门应用于中国研制的亚洲大的粒子系统 ( 100MV ),当前世界上大的粒子系统为美国费密国立实验室的一台质子同步 ( 200MV )上海伯东是美国 HVA 真空阀门在中国境内的代理商, 负责HVA valve 真空阀门在中国地区的销售和相关
氦质谱检漏仪 CVD 设备检漏, 满足*三代半导体芯片量产上海伯东某客户是一家以先进化合物半导体光电器件相关产品衍生智造为主业的创新型科技公司, 核心产品是物联网, 5G 通讯, 安防监控等*三代半导体芯片. 芯片在生产过程中使用 CVD 设备做镀膜处理, 在镀膜过程中需要保持设备处于高真空状态, 这就要求腔体的泄漏率不能过 1E-10 mbrl l/s.CVD 设备检漏要
公司名: 伯东企业(上海)有限公司
联系人: 叶南晶
电 话: 021-50463511
手 机: 13918837267
微 信: 13918837267
地 址: 上海浦东高桥上海浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
邮 编:
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