鹏城半导体参加*十五届中国微纳电子技术交流与学术研讨会

时间：2022-10-10

作者：鹏城半导体技术（深圳）有限公司

*十五届中国微纳电子技术交流学术研讨会

时间：2022年10月28-30日

地点：厦门君泰酒店

鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点，寻求创新**与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。

公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。

公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。

公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市光明区，设有中试基地，并在沈阳市设有全资子公司，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。

产品展示

Product presentation

金刚石薄膜制备设备

热丝CVD金刚石设备

研发设计制造了热丝CVD金刚石设备，分为实验型设备和生产型设备两类。

设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可以制造大尺寸金刚石多晶晶圆片，用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉；可用于生产制造防腐耐磨硬质涂层；环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极等。

可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。

分类：单面热丝CVD金刚石设备/

双面热丝CVD金刚石设备

生产型热丝CVD金刚石设备：

可制备金刚石面积-宽650*1200mm/

可制备金刚石φ 650mm

高真空磁控溅射仪

高真空磁控溅射仪（磁控溅射镀膜机）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。

秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念，我们做了如下设计和工程实现，实际运行效果良好，为用户的**工艺实现提供了精准的工艺设备方案。

分子束外延薄膜生长设备（MBE)

该设备可以在某些衬底材料上实现外延生长工艺，实现分子自组装、**晶格、**阱、一维纳米线等。可以进行*二代半导体和*三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造。

分子束外延薄膜生长设备在薄膜外延生长时具有**高的真空环境，是在理想的环境下进行薄膜外延生长，它可以排除在薄膜生长时的各种干扰因素，得到理想的高精度薄膜。

我公司设计制造的分子束外延薄膜生长实验设备，分实验型和生产型两种，配置合理，结构简单，操作方便，技术先进，性能可靠，用途多，实用性强，价格相对较低，可供各大学的实验室及科研机构作为分子束外延方面的教学实验、科学研究及工艺实验之用。生产型MBE可用于小批量外延片的制备。

高真空电子束蒸发镀膜机

该设备是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。

可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制。

可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。

高真空电阻热蒸发镀膜机

该设备采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于**材料的物理化学性能研究实验、**半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及**太阳能薄膜电池研究实验等。

LPCVD设备

LPCVD设备是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。

PECVD设备

主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高质量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备......

词条
词条说明
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