锅炉阻垢剂的化学成分是什么？

时间：2020-05-21

阻垢剂、分散剂是循环水化学日常处理中一类占较大比重的化学药剂。例如羟基亚乙基二膦酸（HEDP）和氨基三亚甲基膦酸（ATMP）等，都是由其分子中的部分官能团、通过静电力吸附于致垢金属盐类正在形成的晶体（晶核）表面的活性点上，抑制晶体增长，从而使形成的许多晶体保持在微晶状态，这等于增加了致垢金属盐类在水中的溶解度；与此同时，由于阻垢剂分子在晶体表面上的吸附，晶体即使增长，也只能畸形地增长，这就使晶体产生畸变。畸变后的晶体与金属表面的粘附力减弱，因此不易沉积于金属表面上；由于吸附于晶体表面上的官能团只是阻垢剂分子中的部分官能团，那些未参加吸附的官能团，就会对晶体呈现离子性，因电荷的排斥力增大而使晶体处于分散状态。以上三种作用同时存在，使得在水中阻止相同量的致垢金属盐不在金属表面结垢所需的阻垢剂的量，远低于将同样量的致垢金属盐螯合在水中使其不沉淀所需的螯合剂的量。这一现象，叫做“阈值效应”（Threshold effect），也叫“低**效应”，或叫做“亚化学计量效应”（sub-stoichiometry effect）。因此它们能分散水中的难溶性无机盐、阻止或干扰难溶无机盐在金属设备表面的沉积、结垢，维持金属设备有良好的传热效果，保证生产正常进行。阻垢剂主要包括一些**分散剂、膦酸、膦羧酸及膦磺酸和高分子聚合物等，而目前使用的绝大多数阻垢分散剂是高分子聚合物。
水处理中较早得到应用的阻垢剂大约要算聚合磷酸盐。聚合磷酸盐除具有阻垢作用外，还兼具缓蚀作用。但其缺点是易水解为正磷酸盐，如果控制失当，会使本来不太严重的碳酸钙垢问题转变为十分严重的磷酸钙垢问题。20世纪60年代**磷酸（盐）阻垢剂的问世，表明水中碳酸钙的阻垢技术取得了突破性的进展。也使循环冷却水的**低铬处理配方得以应用。这种**低铬配方在7.5-8.5的pH值范围内使用。高pH值的运用使得对用于缓蚀的铬酸根量的要求从传统铬-磷-锌配方的15-25mg/L降至5-10mg/L，大大减轻了对环境的不利影响。之所以能这样做，是因为**膦酸（盐）阻垢剂的应用，使水中致垢盐碳酸钙在金属表面的阴极区得到有控制的沉积。这种有控制地沉积的碳酸钙，起到了阴极缓蚀剂的作用。**膦酸（盐）阻垢剂的应用，也使经典的循环冷却水聚磷酸盐-**膦酸（盐）-聚丙烯酸（盐）这一磷系碱性处理配方得到广泛应用。而使磷系碱性处理配方得到进一步完善，则应归功于阻磷酸钙垢共聚物阻垢剂的问世。像丙烯酸/丙烯酸甲酯二元共聚物、丙烯酸/丙烯酸羟丙酯/丙烯酸甲酯三元共聚物、丙烯酸/丙烯酰胺甲基丙烷磺酸/次磷酸三元共聚物等，都是为阻磷酸钙垢而研制的。如果说，e799bee5baa6e58685e5aeb931333231383930时至今日，碳酸钙垢和磷酸钙垢已经有了*阻垢剂的话，对于硅酸镁钙、氢氧化铁垢、氢氧化锌垢、硫酸钙垢和硫酸钡垢，则还没有那么有*的阻垢剂，尽管已许多药剂分别对这些垢类显现出阻垢效果。
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锅炉阻垢剂的化学成分是什么？
阻垢剂、分散剂是循环水化学日常处理中一类占较大比重的化学药剂。例如羟基亚乙基二膦酸（HEDP）和氨基三亚甲基膦酸（ATMP）等，都是由其分子中的部分官能团、通过静电力吸附于致垢金属盐类正在形成的晶体（晶核）表面的活性点上，抑制晶体增长，从而使形成的许多晶体保持在微晶状态，这等于增加了致垢金属盐类在水中的溶解度；与此同时，由于阻垢剂分子在晶体表面上的吸附，晶体即使增长，也只能畸形地增长，这就使晶体产
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