玻璃打磨一体化污水处理设备

    玻璃打磨一体化污水处理设备

    鲁盛环保水处理设备有限公司

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    玻璃打磨一体化污水处理设备设置一级空化区和二级空化区对废水进行空化效应,杂质从废水中分离效果好,再将杂质排入杂质收集区,从杂质收集区送到压滤机使混合液中的固体提取出来,实现固液分离,分离的固体从外界收集区排出,分离的液体回到废水进水管重新进行空化效应,能实现将废水固液分离,将空化效应分离杂质后的水收集到储水装置,能对水进行重用。

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    玻璃打磨一体化污水处理设备工作原理:
    污水经提升后进入厌氧池,同时由MBR膜池回流泵提升的硝化液也进入厌氧池,在推流器的作用下与池内活性污泥充分接触,进行反硝化脱氮过程和释磷过程,污水通过厌氧池与MBR膜池中间隔板的进水口进入MBR膜池,微孔曝气器在罗茨风机的作用下为好氧降解过程提供所需的氧气,同时聚磷菌完成吸磷过程,此后经MBR膜组件产出可回用的生活用水,经由本设备所产出的生活污水可达到回用水质要求。
    MBR膜系统运行方式为自吸泵和空气反洗过程交替运行,PLC控制柜控制自吸泵和自控阀;自吸泵正常运行时,开启MBR膜池自控阀,关闭反洗自控阀;空气反洗开始时,依次为关闭自吸泵,开启反洗自控阀,关闭好氧池自控阀;空气反洗完成后,开启MBR膜池自控阀,关闭反洗自控阀,开启自吸泵。液位控制**于MBR膜正常运行过程。液位由液位计控制,当液位升高到高位限值时,自吸泵一直运行,直到降低至正常限值;当液位降低到低位限值时,自吸泵停止运行。
    玻璃打磨一体化污水处理设备处理工艺
    1、氧化沟工艺  
      氧化沟是活性污泥法的一种变形,其池体狭长,故称为氧化沟。氧化沟有多种构造型式,典型的有:A:卡罗塞式;B:奥巴尔型;C:交替工作式氧化沟;D:曝气—沉淀一体化氧化沟 
    2、A/O法  
      即厌氧—好氧污水处理工艺,流程如下:  
      生物接触氧化法是一种介于活性污泥法与生物滤池之间的生物膜法工艺,其特点是在池内设置填料,池底曝气对污水进行充氧,并使池体内污水处于流动状态,以保证污水与污水中的填料充分接触,避免生物接触氧化池中存在污水与填料接触不均的缺陷
    3、2、A/O法  
      即厌氧—好氧污水处理工艺,流程如下:  
      生物接触氧化法是一种介于活性污泥法与生物滤池之间的生物膜法工艺,其特点是在池内设置填料,池底曝气对污水进行充氧,并使池体内污水处于流动状态,以保证污水与污水中的填料充分接触,避免生物接触氧化池中存在污水与填料接触不均的缺陷
    4、SBR工艺
    序批式活性污泥法(SBR—Sequencing Batch Reactor)是早在1914年就由英国学者Ardern和Locket发明了的水处理工艺。70年代初,美国Natre Dame 大学的R.Irvine 教授采用实验室规模对SBR工艺进行了系统深入的研究,并于1980年在美国**(EPA)的资助下,在印*安那州的Culwer城改建并投产了世界上**个SBR法污水处理厂。SBR工艺的过程是按时序来运行的,一个操作过程分五个阶段:进水、反应、沉淀、滗水、闲置。
    5、CCAS工艺
    CCAS工艺,即连续循环曝气系统工艺(Continuous Cycle Aeration System),是一种连续进水式SBR曝气系统。这种工艺是在SBR(Sequencing Batch Reactor,序批式处理法)的基础上改进而成。SBR工艺早于1914年即研究开发成功,但由于人工操作管理太烦琐、监测手段落后及曝气器易堵塞等问题而难以在大型污水处理厂中推广应用。
    玻璃打磨一体化污水处理设备效果
    1、玻璃打磨一体化污水处理设备将推流和完全混合结合而成的新型氧化沟,同时借助MBR池,提高处理效率和效果,对氮磷的去除率高,强化了生化段处理效率;
    2、工艺流程短,施工容易,不需初沉池和二沉池,比传统活性污泥法节省占地面积,可以节约土地资源;
    3、能耐受负荷变化,在MBR系统中,很少或几乎没有剩余污泥流出;
    4、MBR池中采用气提装置,该气提装置由污泥管和进气管组成,有效利用鼓风机的风量使得提升污泥管内外产生密度差,从而使污泥混合液得到提升回流的目的;
    5、玻璃打磨一体化污水处理设备工艺流程简单、自动化程度高,可实现无人职守,管理人员只需要定时巡视即可;
    6、MBR池内的高的活性污泥浓度,使污染物分解彻底,出水细菌、悬浮物和浊度接近于零,全面优于《城镇污水处理厂污染物排放标准》(GB1891-2002)中的一级A标,实现污水的再生回用。
    7、通过运行数据可知,在普通村镇污水处理中,采用本装置运行各个污染物的去除率为:CODcr的去除率不小于92%,BOD5的去除率不小于95%,SS的去除率不小于97%,TN的去除率不小于82%,NH3-N的去除率不小于91%,TP的去除率不小于93%。






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    词条说明

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