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时间：2020-03-09

作者：沈阳鹏程真空技术有限责任公司

小型自动磁控溅射仪

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa

2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S

3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；

4. 系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa

5. 溅射真空室1套，立式上开盖结构，尺寸不小于Ф300mm×300mm，全不锈钢结构，弧焊接，表面进行电化学抛光，内含防污内衬，可内烘烤到100～150℃，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封，腔体内有照明系统

6. 磁控溅射系统 3套，提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%

7. 旋转基片台 1套，样品台可放置不小于100mm样品1片，具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度：室温—500°C连续可调，由热电偶闭环反馈控制，加热电源配备控温表，控温方式为PID自动控温及数字显示

8. 观察窗口及法兰接口部件 1套

9. 工作气路1套，包含：100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路； DN16充气阀、管路、接头等2路；

10. 抽气机组及阀门、管道 1套，包含1台进口复合分子泵及变频控制电源（680L/s ，德国普发Hipace700分子泵）；1台机械泵（4L/S），1台DN40气动截止阀，机械泵与真空室之间的旁抽管路1套，CC150气动闸板阀1台（用于复合分子泵与真空室隔离），节流阀1台，DN40旁抽气阀1台，压差式充气阀1台；管道采用不锈钢三通及波纹管，

11. 安装机台架组件 1套，由优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理，机台表面用不锈钢蒙皮装饰，四只脚轮，可固定，可移动。

溅射镀膜的特点

溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。

溅射镀膜与真空镀膜相比,有如下特点:

1.任何物质都可以溅射, 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;

2.溅射薄膜与衬底的附着性好;

3.溅射镀膜的密度高,孔少,膜层纯度高;

4.膜层厚度可控性和重复性好。

以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。

自动磁控溅射系统有哪些特点？

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品，我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点：

不锈钢腔体

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片

词条
词条说明
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