小型自动磁控溅射仪
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商,我们为您带来以下信息。
1. 溅射室极限真空度:≤6.6×10-6 Pa
2. 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S
3. 系统从大气开始抽气:溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa;
4. 系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa
5. 溅射真空室1套,立式上开盖结构,尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不锈钢结构,弧焊接,表面进行电化学抛光,内含防污内衬,可内烘烤到100~150℃,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封,腔体内有照明系统
6. 磁控溅射系统 3套, 提供3块测试靶材。镀膜不均匀度≤5%
7. 旋转基片台 1套,样品台可放置不小于100mm样品1片,具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。基片加热温度:室温—500°C连续可调,由热电偶闭环反馈控制,加热电源配备控温表,控温方式为PID自动控温及数字显示
8. 观察窗口及法兰接口部件 1套
9. 工作气路1套,包含:100SCCM、20SCCM质量流量控制器、CF16截止阀、管路、接头等共2路; DN16充气阀、管路、接头等2路;
10. 抽气机组及阀门、管道 1套,包含1台进口复合分子泵及变频控制电源(680L/s ,德国普发Hipace700分子泵);1台机械泵(4L/S) ,1台DN40气动截止阀,机械泵与真空室之间的旁抽管路1套,CC150气动闸板阀1台(用于复合分子泵与真空室隔离),节流阀1台,DN40旁抽气阀1台,压差式充气阀1台;管道采用不锈钢三通及波纹管,
11. 安装机台架组件 1套,由优质方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理,机台表面用不锈钢蒙皮装饰,四只脚轮,可固定,可移动。
溅射镀膜的特点
溅射就是从靶表面撞击出原子物质的过程。溅射产生的原子或分子沉积到基体(零件)表面的过程就是溅射镀膜。
溅射镀膜与真空镀膜相比,有如下特点:
1.任何物质都可以溅射, 尤其是高熔点金属、低蒸气压元素和化合物;
2.溅射薄膜与衬底的附着性好;
3.溅射镀膜的密度高,孔少,膜层纯度高;
4.膜层厚度可控性和重复性好。
以上就是为大家介绍的全部内容,希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多磁控溅射产品的知识,欢迎拨打图片上的热线联系我们。
自动磁控溅射系统有哪些特点?
沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品,我们为您分析该产品的以下信息。
自动磁控溅射系统产品特点:
不锈钢腔体
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下的载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片
词条
词条说明
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小型自动磁控溅射仪 沈阳鹏程真空技术有限责任公司——专业磁控溅射产品供应商,我们为您带来以下信息。 1. 溅射室极限真空度:≤6.6×10-6 Pa 2. 系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S 3. 系统从大气开始抽气:溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa; 4. 系统停泵关机12小时后真空度:≤5Pa 5. 溅射真空室1套,立式上开盖结构,尺寸不小于Ф300mm×300mm,
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