全自动等离子处理系统_等离子清洗 全自动等离子处理系统_等离子清洗概要: 全自动等离子处理系统是面向工业级客户使用需求设计的自动化等离子处理设备, 适用于等离子清洗、活化以及等多种应用。 全自动等离子处理系统特点: 引线框架或基板通过传送系统输运到腔体中进行处理,整个过程避免了人为接触 通过PLC与工控机共同控制。确保了系统稳定运行的同时,具备强*艺程序编辑与工艺数据存储能力 专业可靠的设计确保系统耐用且易于保养 *需要详细参数资料,请联系我们 了解更多半导体/plasma_cleaner/ 全自动等离子处理系统_等离子清洗相关产品: 衡鹏供应 等离子体去胶机 桌面型多功能等离子设备 一体式等离子处理系统 等离子体纳米涂层设备
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PCU-200_MALCOM锡膏粘度测试仪 衡鹏供应 (已停产,代替品PCU-201/203/205/285) MALCOM PCU-200锡膏粘度测试仪特点简介: ·采用了螺旋泵式传感器的共轴双重圆筒型回转粘度计 ·再现性非牛顿流体很好地,而且可以连续测量)滑动速度,滑动时间一定) ·容器内的夹具适用于各式包装锡膏罐 ·自动测定(PCU-203、205) ·内藏可以打印出各种数据的打印机 ·根据
锡膏分析仪-手持式粘度计PM-2A 手持式粘度计PM-2A锡膏分析仪特点: ·轻便简单 ·可以很好再现流体性,而且可以连续测量(滑动速度,滑动时间一定) ·数字表示Pa·S ·测定范围广泛 ·客户可自行调整 ·可以测定温度 手持式锡膏粘度计PM-2A分析仪规格: 项目 规格 品名 PM-2A 测定范围 5.0~500Pa·s 标准回转数N 10RPM±5% 滑动速度D (标准回转) 0.6×N s
MALCOM摄像模组RCX-C拍摄实际回流焊炉内状态 MALCOM摄像模组RCX-C特点: RCX-C拍摄实际回流焊炉内状态的耐高温摄像头模组 摄像头直接固定在基板上(厚度19mm) 使用反射镜片可以从侧面·上面·斜面来拍摄 了解更多:http:///temperature/rcx-gl.htm MALCOM摄像模组RCX-C相关产品: 衡鹏供应 MALCOM RCX-
GDM300是具有双抛光工位的全自动晶圆研磨机 晶圆抛光GDM300全自动晶圆研磨机特长: ·采用全自动系统,从后磨到贴装的连续过程,可研磨至25um厚度。 ·2个磨头阶段,产量几乎是1个磨头系统的两倍。 ·内置修边系统可作为薄型晶圆加工的选择。 ·双指标体系,抛光阶段和研磨阶段完全分离,满足TSV和MEMS工艺所需的清洁。 ·**亮度小于Ra1A,可**镜面。 了解更多:http://www.hap
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