晶圆减薄设备GNX200BP_代理商衡鹏

    晶圆减薄设备GNX200BP_代理商衡鹏
    代理商衡鹏GNX200BP是一款持续向下进给式减薄设备,采用机械臂传送硅片,减薄完成后,有两个独立的清洗腔,清洗效果更佳。工作盘转速、主轴转速、主轴下压速度都可调,有助于平衡产量、减薄品质、磨轮寿命。采用两点式实时测厚仪测量主轴1和主轴2下的硅片厚度,采用3点测控主轴角度调整机构来控制加工的平整度(TTV)。减薄工序完成后,硅片即会被自动传送的抛光腔,经过抛光工序,去除硅片表面损伤,提高晶圆强度,较薄可以加工50μm的晶圆。
    
    
    
    晶圆减薄设备GNX200BP规格:
    支持wafer尺寸	8英寸
    主轴形式	                空气主轴,MAX3600rpm
    朱轴驱动电机功率	2.2kW/4kW
    磨轮直径	                250mm
    工作台数量	3个工作台
    工作台形式	机械轴(标配)承或空气轴承(选配)
    工作台转速	1-600rpm
    测厚机构	                2点接触式测厚机构
    测厚精度	                1um
    测厚范围	                0-1.2mm
    料盒数量	                每个工作单元(减薄&抛光)各2个料盒
    抛光机构功率	3kW 交流伺服电机(0-460rpm)
    抛光波速	                100-8000mm/min
    抛光压力	                50-999g/cm2
    抛光磨轮尺寸	200mm
    抛光台转速	50-200rpm
    真空盘材质	氧化铝边框+陶瓷气孔盘
    自洁方式	                水冲+刷洗
    
    
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