近日,鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体)申请的《PVD薄膜沉积系统软件 》、《高真空溅射系统软件》、《电子束蒸镀薄膜沉积系统软件》、《微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件》4项软件著作权**通过审批,经*人民共和国国家**考证,根据《*人民共和国计算机软件保护条例》和《计算机软件著作权登记办法》的规定,鹏城半导体技术(深圳)有限公司被认定这4项软件的法定著作权人,从颁证之日起,其版权将得到“中国版权保护中心”的有效保护。
《PVD薄膜沉积系统软件V1.0》于2022年05月17日被正式授予《*人民共和国国家**计算机软件著作权登记证书》,登记号为2022SR0590529。
《高真空溅射系统软件V1.0》于2022年05月18日被正式授予《*人民共和国国家**计算机软件著作权登记证书》,登记号为2022SR0595136。
《电子束蒸镀薄膜沉积系统软件V1.0》于2022年05月20日被正式授予《*人民共和国国家**计算机软件著作权登记证书》,登记号为2002SR0613209。
《微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件V1.0》于2022年05月20日被正式授予《*人民共和国国家**计算机软件著作权登记证书》,登记号为2022SR0613210。
PVD薄膜沉积系统软件V1.0
电子束蒸镀薄膜沉积系统软件V1.0
高真空溅射系统软件V1.0
微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件V1.0
国家软件著作权证书的获得,既是对鹏城半导体核心技术**方面的*认可和充分肯定,更是一种社会责任!鹏城半导体将会继续发挥研发技术优势,在产品技术研发及自主创新的道路上,坚守企业初衷,心无旁骛地致力于为用户提供更好的产品和服务。
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词条说明
一年一度行业盛会,*八届国际*三代半导体论坛(IFWS )&*十九届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA)于2023年2月7日-10日(7日报到)在苏州金鸡湖凯宾斯基大酒店召开。在这场被视为“***三代半导体行业*”的盛会上,由2014年诺贝尔物理奖获得者、日本工程院院士、美国工程院院士、中国工程院外籍院士、日本名古屋大学未来材料与系统研究所教授天野浩,美国工程院院士、美国国家发明
一、PVD真空镀膜设备市场概况高真空电子束蒸镀机-鹏城半导体2024年,**PVD真空镀膜设备行业的总规模约为22亿美元,而且预计到2024年,这一数字将会翻倍,达到47亿美元。PVD真空镀膜技术由非金属物质以真空温度和带电离子碰撞技术,形成厚膜,具有聚合度高、粘着力强、透明度高及耐腐蚀性好等优点。PVD真空镀膜设备可广泛应用于电子、医疗、汽车、航空航天、航空航空电子等领域,以及金属表面处理、无损
2022年8月15日-18日,2022十七届全国MOCVD学术会议选择在中国·太原·湖滨国*际大酒店举行。金属**化学气相淀积(MOCVD)技术自二十世纪六十年代提出以来,取*得了飞速进步,已经广泛应用于制备III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半导体材料及其**结构,较*大地推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化,也成为半导体**晶格、**阱、**线、**点结构材料及相
会议时间:2024年7月8-11日会议地点:广州白云国际会议中心主办单位:中国材料研究学会“中国材料大会”是中国材料研究学会的学术年会,是重要的系列品牌会议之一,是中国新材料界学术水平较高、涉及领域较广、*动态较新的****学术大会,是面向国家重大需求、推动新材料*重大突破的高水平品牌大会。为推动经济社会高质量发展,加快建设科技强国,实现高水平科技自立自强,拟于2024年7月8-11日在广东省广
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