*四届**半导体产业（重庆）博览会圆满落幕

时间：2022-07-06

6月29日至7月1日，*四届**半导体产业与电子技术（重庆）博览会（以下简称“博览会”）在重庆国际博览中心圆满落幕。博览会聚焦“集成电路设计制造、封装测试、半导体材料、AI+IOT+5G、智慧电源、生产设备、电子元器件、电子智能制造、智慧工厂、测试测量、连接器及线束加工”等重点领域，涵盖展览展示、*发布、高端论坛、技术研讨、招商推介等多维度活动内容，发布推广新产品、*技术成果和优秀解决方案，搭建专业高端的产业生态交流合作平台。

*四届**半导体产业与电子技术（重庆）博览会（以下简称“博览会”）于7月1日圆满落下帷幕。展会虽已落幕，但鹏城半导体从开始布展到圆满结束，渗透其中的每一个细节，都倾注了我们对半导体行业的无限热爱与追寻。

精彩回顾

鹏城半导体热丝CVD金刚石薄膜制备设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。

可用于平面工件的金刚石薄膜制备，也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。

在展会现场鹏城半导体热丝CVD金刚石薄膜制备设备受到广大客户以及观众驻足咨询，鹏城半导体吴向方先生热情的为每一位客户讲解我们的CVD金刚石设备，耐心回答客户的各种问题及为客户的访求，提供更适合的解决方案……

热丝CVD金刚石薄膜制备设备可用于生产制造环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极。

现场除了热丝CVD金刚石薄膜制备系统解决方案吸引了众多用户咨询，还有分子束外延薄膜生长设备（MBE）、高真空磁控溅射仪、高真空电阻热蒸发镀膜机、高真空电子束蒸发镀膜机等解决方案。

短短3天时间，鹏城半导体作为参展商在本届展会吸引了众多客户前来了解、洽谈合作，有意向的客户直接预约公司参观和业务洽谈。

展会

开始于人声鼎沸间，

结束于意犹未尽中。

结束

意味着另一段征程的开始。

步履不停，前进不息，

感恩相遇，期待我们的合作共赢。

词条
词条说明
PVD技术在半导体器件中的应用
在快速发展的半导体技术领域，物相沉积（PVD）是实现薄膜沉积工艺精度和效率的关键工具。让我们一起来了解PVD技术在半导体行业中的应用。物相沉积涉及在半导体衬底上沉积薄膜，利用诸如溅射或蒸发等物理过程。PVD的多功能性和可控性使其成为半导体制造中的宝贵工具，可以创建复杂和的设备。PVD在微电子学中的应用薄膜晶体管(TFTs)PVD在TFT的制造中起着关键作用，TFT是平板显示器、发光二管(OLED)
化学气相沉积设备（CVD）-小型管式LPCVD设备
LPECVD是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜）。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。小型管式LPCVD设备设备结构及特点1、小型化，方便实验室操作和使用，大幅降低实验成本两种基片尺寸2英寸或4英寸；每次装片1～3片。基片放置方式：配置三种基片托架，竖直、水平卧式、带倾角。基片形状类型：不规则形状的散片、φ2～4
新闻快讯-鹏城半导体MOCVD设备
材料的输运采取了**纯的气路系统，源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有较小的死空间，使得源的残留量非常少，有利于生长具有陡峭界面的材料。采用压差控制技术控制组合阀的旁路和主路之间的压力，大大降低了源的压力和浓度波动，有利于材料生长的重复性和稳定性。采用了管道镶嵌式进气喷头，使反应源在衬底表面均匀混合并反应，大大降低了预反应的发生。采用电阻式快速升降温加热炉。
CITE2023 |鹏城半导体携热丝CVD金刚石等全系列方案亮相，备受瞩目
2023年4月9日，为期三天的*十一届中国电子信息博览会(英文简称：CITE2023)在深圳福田会展中心圆满落幕。左一（黑龙江副省长-王岚女士）左二（鹏城半导体董事吴向方教授）本届展会上鹏城半导体携带多功能磁控溅射、热丝CVD金刚石、分子束外延系统MBE等多个解决方案亮相，现场人潮涌动，