成功的转印过程指的是功能单元器件经过剥离与印制过程后仍然完好地保持着转印前的结构和功能。
即核心为界面能和接触面积,通过过程计算可得到,转印过程可以通过减弱功能单元器件和施主基底的界面、增强功能单元器件和受主基底的界面以及调控柔性印章和功能单元器件的界面(剥离过程中增强界面、印制过程中弱化界面)等措施来实现。
界面的强弱可以通过调节控制单位面积的界面能和界面处的接触面积两种方式来实现。而减弱功能单元器件和施主基底的界面通常采用牺牲层技术,即利用同一种腐蚀气或液体对不同材料的腐蚀速度不同的特点,选择性的将功能单元器件与施主基底之间的材料刻蚀掉,在两者之间形成空腔以减少两者间的界面能。
增加功能单元器件和受主基底界面的方法目前主要有:紫外臭氧清洗的方法增强受主基底表面的黏附。其他方法则不常见。
从控制方式来看,转印过程可通过控制剥离和印制过程中的速度(黏弹性印章、表面金字塔型微结构印章)、温度(开关记忆聚合物印章、热释放胶带印章、微球印章和激光驱动的接触面积可控印章)、气压(气压驱动的接触面积可控印章)、液体(水溶性胶带印章和液滴印章)来实现,具体的控制,
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词条说明
气压控制转印气压控制转印主要是用通过控制气压来调控柔性印章与功能单元器件接触面积的方法,来控制转印过程。其余的都和其他转印一样,都是利用弹性印章与器件界面强弱粘附力的调节来实现印章对器件在不同基底上的拾取和释放。因此,转印的成功关键都在于印章/器件界面的粘附调控气压控制过程气压控制转印采用具有内部空腔的柔性印章,剥离过程中,印章内部空腔处于未充气状态,印章表面与器件有相对大的接触面积,可实现器件的
温度控制转印温度控制转印包括形状记忆聚合物印章转印、微球印章转印、激光驱动的接触面积可控印章转印和热释放胶带印章转印。通过控制剥离和印制过程中的温度,形状记忆聚合物印章转印、微球印章转印和激光驱动的接触面积可控印章转印可以调控印章与功能单元器件界面的接触面积,热释放胶带印章转印可以调控印章与功能单元器件界面单位面积的界面能,实现剥离过程中柔性印章与功能单元器件之间为强界面,而印制过程中柔性印章与功
速度控制转印速度控制转印方法包括黏弹性印章转印和表面金字塔型微结构印章转印。这类转印方法的特点是柔性印章具有黏弹性,通过控制转印的速度可以实现柔性印章与功能单元器件之间界面能量的转变,剥离过程中柔性印章与功能单元器件界面转换为弱界面,便于功能单元印制受主基底。黏弹性印章转印黏弹性材料具有率相关特性,与功能单元器件黏合后,两者间的界面强度取决于该界面断裂的速度,基于此,研究者发展了基于率相关的黏弹性
转印成功的转印过程指的是功能单元器件经过剥离与印制过程后仍然完好地保持着转印前的结构和功能。即核心为界面能和接触面积,通过过程计算可得到,转印过程可以通过减弱功能单元器件和施主基底的界面、增强功能单元器件和受主基底的界面以及调控柔性印章和功能单元器件的界面(剥离过程中增强界面、印制过程中弱化界面)等措施来实现。转印控制界面的强弱可以通过调节控制单位面积的界面能和界面处的接触面积两种方式来实现。而减
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