材料的输运采取了**纯的气路系统,源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有较小的死空间,使得源的残留量非常少,有利于生长具有陡峭界面的材料。
采用压差控制技术控制组合阀的旁路和主路之间的压力,大大降低了源的压力和浓度波动,有利于材料生长的重复性和稳定性。
采用了管道镶嵌式进气喷头,使反应源在衬底表面均匀混合并反应,大大降低了预反应的发生。
采用电阻式快速升降温加热炉。
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词条说明
2022年8月15日-18日,2022十七届全国MOCVD学术会议选择在中国·太原·湖滨国*际大酒店举行。金属**化学气相淀积(MOCVD)技术自二十世纪六十年代提出以来,取*得了飞速进步,已经广泛应用于制备III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半导体材料及其**结构,较*大地推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化,也成为半导体**晶格、**阱、**线、**点结构材料及相
2022年1月17日, 国华三新与鹏城半导体在深圳举行签约仪式, 国华投资吴叶菲总经理等一行出席本次签约仪式;鹏城半导体代表吴向方先生等一行出席本次签约仪式。关于我们鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点,寻求创新**与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控
鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点,寻求创新**与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装
等离子体化学气相沉积设备有两种:其一是PCVD(等离子体一般化学气相沉积),另一个是PECVD(等离子体增强化学气相沉积),它们都是在20世纪70年代发展起来的镀膜工艺。其特点是:1、在不同基片上制备各种金属膜、**物聚合膜、非晶态无机物膜;2、等离子体清洗基材,使膜层的附着力增加;3、可制备厚膜,内应力小、致密性好、针孔小、膜层成分均匀、不易产生微裂纹;4、低温成膜,温度对基材没什么影响,避免了
公司名: 鹏城半导体技术(深圳)有限公司
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