4月16日,“才聚西塞山 青创南太湖”*六届中国·湖州**高层次人才创新创业大赛暨深圳城市赛正式开赛,前期共征集20多个高层次人才创业项目,经过层层筛选,共有9个项目进入本次城市赛,涉及新能源、新材料、生命健康、AI智能等多个领域。
鹏城半导体技术(深圳)有限公司-副总经理孔博士
经过激烈的角逐,鹏城半导体技术(深圳)有限公司(简称:鹏城半导体)-“大尺寸金刚石晶圆片产业化项目”“斩获了本次城市赛的一等奖。鹏城半导体副总经理孔博士说“今天能收获一等奖,我们团队成员都十分开心,也证明了我们发展方向具有广阔前景,之后我们将进一步完善项目细节,去冲击较终决赛的好名次,及为大家展示鹏城半导体更好的项目。“
鹏城半导体获一等奖(中)
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*十五届中国微纳电子技术交流学术研讨会时间:2022年10月28-30日地点:厦门君泰酒店 鹏城半导体技术(深圳)有限公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点,寻求创新**与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。公司核心业务是半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造。公司人才团队知识
在快速发展的半导体技术领域,物相沉积(PVD)是实现薄膜沉积工艺精度和效率的关键工具。让我们一起来了解PVD技术在半导体行业中的应用。物相沉积涉及在半导体衬底上沉积薄膜,利用诸如溅射或蒸发等物理过程。PVD的多功能性和可控性使其成为半导体制造中的宝贵工具,可以创建复杂和的设备。PVD在微电子学中的应用薄膜晶体管(TFTs)PVD在TFT的制造中起着关键作用,TFT是平板显示器、发光二管(OLED)
2022年8月15日-18日,2022十七届全国MOCVD学术会议选择在中国·太原·湖滨国*际大酒店举行。金属**化学气相淀积(MOCVD)技术自二十世纪六十年代提出以来,取*得了飞速进步,已经广泛应用于制备III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半导体材料及其**结构,较*大地推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化,也成为半导体**晶格、**阱、**线、**点结构材料及相
真空镀膜设备的薄膜制作过程,简单来说就是将一种材料(薄膜材料)转移到另一种材料(基底)的表面,形成和基底牢固结合的薄膜的过程。所以,任何的真空镀膜薄膜制作方法都包括:源蒸发、迁移和凝聚三个重要环节。多功能磁控溅射仪一、镀膜蒸发源“源"的作用是提供镀膜的材料(或被镀材料中的某种组分)。通过物理或化学的方法使镀膜材料成为气态物质。热丝CVD金刚石设备二、迁移过程迁移过程都是在气相中进行的,在气态物质迁
公司名: 鹏城半导体技术(深圳)有限公司
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