气敏测试探针台具有哪些领域？

时间：2023-10-07

作者：郑州科探仪器设备有限公司

微型探针台尺寸小、重量轻，具备变温测试及真空测试功能，适用于科研工作，也适用于与其他仪器联用，是一款非常有特点的微探针系统。

郑科探真空探针台主要应用于传感器，半导体，光电，集成电路以及封装的测试。广泛应用于复杂、高速器件的精密电气测量的研发，旨在确保质量及可靠性，并缩减研发时间和器件制造工艺的成本。

仪器特点：

工作距离短、尺寸小，带有视窗，可以与各种显微镜联用；

配备真空腔，有优异的气密性；

应用领域：

与拉曼光谱联用；

电致发光或荧光光谱测试(EL, PL)；

气体传感器(气敏测试)；

金属-绝缘体相变；

光电流扫描；

I-V测试；

场效应晶体管测试；

热传导测试；

热磁滞研究；

铁电畴转换观测；

反射率测试；

霍尔效应测试；

词条
词条说明
磁控溅射沉积系统设计
针对光学和介电功能薄膜制备中的离化率低和靶面污染问题,设计了一种磁控溅射沉积系统,系统包括磁控溅射靶装置、等离子体源和阳极清洗装置。主要结论有:(1)在磁控溅射靶装置设计中,采用磁流体密封替代橡胶轴承密封,提高了靶装置的密封性,极限真空度可达10-6 Pa;采用旋转磁钢代替固定磁钢,使靶材的利用率从30%提高到60%,同时避免了靶装置在预先清洗时的污染;设计了靶装置的驱动端,完成了电机
磁控溅射技术原理及应用简介
磁控溅射技术原理及应用简介一、磁控溅射原理磁控溅射是一种常用的物相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。传统的溅射技术的工作原理是：在高真空的条件下，入射离子（Ar+）在电场的作用下轰击靶材，使得靶材表面的中性原子或分子获得足够动能脱离靶材表面，沉积在基片表面形成薄膜。但是，电子会受到电场和磁场的作用，产生漂移，因而导致传溅射效率低，电
恭喜郑科探突破焦耳热闪蒸新技术
焦耳热闪蒸技术，用于将含碳的废料转化为石墨烯材料。原理是利用**高温环境将高碳含量材料变为石墨。先将这些废料被磨成粉末，然后用高压加热到2000℃（3680°F到4940°F）之间。为了获得高质量的涡轮状闪蒸石墨烯，闪蒸时间应保持在30～100 ms之间。这种技术是一种更便宜制造石墨烯的方法，需要的能量也少得多，并可以将生活中废弃的塑料碎片回收利用。在这项新的研究中，莱斯大学的科学家们已经通过焦耳闪
小型金属溅射镀膜机优点
1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有些杂质，挡板可以保护样品，提高薄膜质量3、带有水冷系统，可以长时间溅射镀膜，厚度可达1微米以上。4、直流磁控溅射，提高附着力，溅射速率快，比离子溅射快上一个量级。针对某些金属较快能达到1-2纳米每秒，5、不但可以电镜制样，还可以制作金属电极。6、可扩展膜厚监测，监测薄膜厚度。溅射仪使用需注1 靶材需要