真空镀膜行业发展趋势，低耗能无污染先进技术

时间：2024-02-28

1、真空镀膜行业技术水平及特点

多功能磁控溅射仪（高真空磁控溅射镀膜机）-鹏城半导体

真空镀膜是表面处理技术的一项分支，是指为了减少杂质的干扰，在高度真空环境下，通过物理或化学手段，将金属、非金属或化合物材料（膜材）转换成气态或等离子态，并沉积于玻璃、金属、陶瓷、塑料或**材料等固体材质（简称基材、基板或基片）表面形成薄膜的过程。

利用真空镀膜技术镀制薄膜后，可使材料表面获得新的复合性能并实现新型的工程应用，赋予材料表面新的机械功能、装饰功能和声、电、光、磁及其转换等特殊功能（例如防辐射、增减透光、导电或绝缘、导磁、抗氧化、耐磨损耐高温耐腐蚀等），从而改善产品原有性能、提高产品质量、延长产品寿命等。和传统镀膜方法（如电镀、化学镀膜）相比，真空镀膜使用的镀膜材料种类更丰富、膜层厚度更易控制、附着力更强、适用范围更广，在操作过程中更加节能、安全、环保。

真空镀膜技术与传统的电镀、热浸镀技术相比较，主要有三大优势：一是不影响被镀材料的质量，在加热镀膜材料时，不需要过高温度，因此不会出现被镀材料在几何尺寸上发生变形或降低材质性能等现象；二是可以较大范围内自由选择镀膜材料，更容易在组成和构造上对膜材进行控制；三是镀膜过程与电镀、热浸镀技术相比，对周围环境影响更小。

三类真空镀膜技术介绍及如下：

1、真空蒸发镀膜：加热膜材使表面组分以原子团或分子团形式被蒸发出来，并沉降在基片表面形成薄膜

高真空电子束蒸发镀膜机-鹏城半导体

2、真空磁控溅射镀膜：用高能等离子体轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜

高真空磁控溅射镀膜机-鹏城半导体

3、真空离子镀膜：在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其反应物沉积在被镀基片表面

真空镀膜行业发展态势

真空镀膜设备除应用在消费电子、集成电路、光学光电子元器件等领域外，还可以应用于医疗器械、航空航天、太阳能、塑料、包装、纺织、机械、防伪、建筑等领域。为加快发展先进制造业，提高重大装备国产化水平，国家一直积极鼓励发展高端、精密、**精密制造技术的开发和运用，先后发布了《新材料产业发展指南》《关于实施制造业升级改造重大工程包通知》《国民经济和社会发展*十四个五年规划和 2035 年远景目标纲要》等政策法规。

随着国家对环境保护的日益重视，真空镀膜的高性价比、低污染的特点将成为表面处理业内主流技术。一方面，表面处理技术发展趋势是向低耗能无污染的技术方向发展，真空镀膜技术依附其环保节能、安全可控的特性，配合国家可持续发展战略，市场覆盖率迅速扩大。

另一方面，表面处理技术对于被处理对象的表面进行各种改性改造，增强了被处理对象表面的耐磨性、耐腐蚀性、光滑度等属性，使被处理对象在使用过程中大大减少了损耗和浪费，起到了节能环保作用，符合国家在产业政策和产业规划上的导向。在此背景下，掌握了低耗能无污染先进技术的国内企业，能够抢占市场先机。

鹏城半导体技术（深圳）有限公司

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