真空镀膜加工的常用方法

时间：2021-09-16

　　森丰小编告诉你真空镀膜加工的常用方法，真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料， 使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。

　　(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

　　(2)阴溅射镀：将需镀膜的基体放在阴对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

　　(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或**化合物，获得沉积薄膜的过程。

　　(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴溅射镀的**结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。

　　森丰真空镀膜加工公司创立于1998年，是一家面向**的真空镀膜加工企业。公司镀膜加工业务涉及钟表、珠宝、手机、飞机零配件、工模具等领域，在装饰膜、功能膜、光学膜的真空镀膜上有着强大的工艺技术和丰富的生产经验。

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