掩膜版是什么

    掩膜版是什么

    业内又称光掩模版、掩膜版,英文名称 MASK 或 PHOTOMASK),材质:石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻。

    结构

    实体结构:布满集成电路图像的铬金属薄膜的石英玻璃片上的图像。

    倍缩光掩模(Reticle):当铬膜玻璃仅能局部覆盖晶圆称为倍缩光掩模,通常图型要放大4倍、5倍或10倍。

    光掩模(Mask):当铬膜玻璃上的图像能覆盖整个晶圆时称之为光罩。

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