一文简述真空等离子喷涂

    大气中,等离子焰流一离开喷嘴就从周围吸入大量空气。在100mm喷距时,吸入空气量可占等离子体的90%以上。常压等离子喷涂时,金属粉末氧化严重。另外,有些有毒材料(如铍及氧化铍)无法在大气中喷涂。为解决上述问题,提出了低压等离子喷涂。真空等离子喷涂又称低压等离子喷涂,是在低于大气压的低真空的密闭空间里进行的等离子喷涂。下面和壹佰一起了解吧。

    受控环境的喷涂技术将我们对等离子喷涂的认识向前推进了一步。在喷涂室内操作喷枪,使环境得到完全控制。这样生产出来的涂层的特性是不可能在标准大气环境下生产出来的。环境可以在近乎真空(低达50 mbar)和增高压力(高达4 bar)范围内变化。选择在喷涂室内喷涂可防止涂层材料和/或基体的污染,或是由于需要喷涂材料与加入的某种物质产生反应。

    可控气氛等离子喷涂的原理即等离子喷枪置于密封舱室内,由机械手进行操作。将舱室抽至真空状态即为真空等离子喷涂(VPS),舱室为低压状态时,成为低压真空等离子喷涂(LPPS)。舱室的气氛可以为惰性气氛或其他保护性气氛。由于环境为低压或气氛可控,等离子焰流加长,粒子加热充分,氧化减少,涂层的质量得到明显改善,并且可以用于制备沉积金刚石膜、**导体氧化物涂层。

    这种工艺生产出的涂层有很多优势。涂层致密性好,粘结性强,不会被污染,金属涂层中没有氧化物。在用无反应大气装填的喷涂室内喷涂的陶瓷等非金属涂层纯度很高。并且,诸如钨等高熔点金属涂层应用也很成功。这是因为等离子羽流剖面均匀,“焦斑直径”可以很大。此外,没有大气冷却涂层粒子意味着涂层凝固过程比较缓慢。大气等离子涂层几乎没有夹层“薄片”,涂层的晶体结构接近铸件材料的晶体结构。

    在低真空的环境里,由于非转移型等离子弧射流变粗拉长,一直接触到工件表面,形成导电通道,因而可在其上叠加转移弧。利用转移弧对工件表面进行溅蚀,去掉表面氧化层和污染,并且工件可以加热到较高温度,使得涂层在光滑的表面上就可结合,并在界面上产生扩散,提高了结合强度,涂层厚度亦可不受限制。在密闭室进行喷涂,噪声和粉尘对环境的污染问题也相应得到了解决。

    低真空环境下的喷涂与大气等离子喷涂相比具有以下显著特点:

    1)等离子射流的速度和温度都比大气等离子喷涂明显提高,压力愈低,射流速度和温度就愈高。

    2)粉末在等离子射流高温区域滞留的时间增加,受热均匀,飞行速度高。

    3)可大幅度提高基体表面预热温度;还可以用反向转移弧对基体进行溅射清洗,清除氧化物和污垢,使涂层和基体的结合状况得到改善。

    4)粉末和基体表面完全避免了氧化,能制备各种活性金属材料涂层。

    5)由于以上原因,使得涂层结合强度大幅度提高,气孔率大幅度降低,涂层残余应力减小,涂层质量明显改善。

    6)真空等离子喷涂设备复杂,价格昂贵,推广应用难度很大。

    以上就是壹佰分享的真空等离子喷涂,经过此文相信友友们对真空等离子喷涂技术也有了一定的了解,希望可以帮助到大家。想了解多相关技术资讯,欢迎持续关注。


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