气氛炉中不同气氛对硅碳棒的影响
随着需控制真空气氛炉气氛要求的增加,关于在不同气氛中使用硅碳棒的注意事项也变得越来越重要。而且,在烧成中与处理物挥发出来的各种化学物质之间的反应也同样需要注意。
所以,针对特殊气氛和腐蚀性物质,我公司开发了各种防止硅碳棒快速老化的涂层。选用适当的涂层可以延长硅碳棒的寿命。无论在哪种气氛中都让表面负荷尽量小。
气氛影响对策推荐涂层水蒸气和湿气比在干燥大气中的使用寿命缩短1/5新真空气氛炉试运行或者旧炉子长时间不工作再使用时,要先低温充分干燥后再升温。
U涂层氢气硅碳棒温度上升到1350℃以后电阻急速增加,机械强度也下降。而且根据气体干湿的不同寿命也差别很大。
建议在真空气氛炉温度为1300℃以下的状态下使用。表面负荷尽量小(5W/cm2)。
氮气温度**过1400℃时氮气与碳化硅反应生成氮化硅,使硅碳棒变脆,寿命缩短。受露点的影响与氢气的状况相同建议在真空气氛炉温度为1300℃以下的状态下使用。表面负荷尽量小(5W/cm2)。
N涂层氨气(H275%)、(N225%)与氢气、氮气的状况相同。
建议在真空气氛炉温度为1300℃以下的状态下使用。表面负荷尽量小。
N涂层分解反应气体(N2、CO、CO2、H2、CH2混合物)加热过程中硅碳棒表面附着分解后的碳黑,造成棒体疏松。
经常向真空气氛炉输送空气,让多余的碳燃烧。在真空气氛炉构造方面,保持硅碳棒间足够的间隔以防止短路。
N涂层硫(S、SO2)硅碳棒温度升到1300℃以后,硅碳棒表面被侵蚀、电阻急剧增加。
将硅碳棒温度控制在1300℃以下。
N涂层其他由被处理物产生的各种物质,如铅、锑、碱金属的化合物与硅碳棒反应,使其寿命缩短。
预先将这些物质从处理物中除掉,真空气氛炉设排气口以便减弱其影响。
H涂层S涂层。
词条
词条说明
小型真空热处理炉以掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和PID30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用软质和硬质碳纤维材料,能快速升降温。采用外壳整体密封,盖板和炉门密封均采用高温硅胶O型圈。该炉必须在真空下烧结,该炉在侧面开有DN150MM的法兰接头接扩散泵,扩散泵后接有真空泵,并配有真空阀、复合真空计等,该炉具有体积小、温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、价格优惠、节能等优点
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