沉淀法白炭黑的表面结构

时间：2019-03-09

今天白炭黑生产厂家聊城赛立科带大家分析一下沉淀法白炭黑的表面结构。

  沉淀二氧化硅（白炭黑）表面存在着—OH。 
　　1、相邻羟基存在于沉淀二氧化硅（白炭黑）中，这些羟基邻近，故以键形式彼此结合。相邻羟基对极性武陟的吸附是十分重要的，它是比隔离羟基更有效的吸附点。 
　　2、隔离羟基主要存在于脱水的表面，这种羟基本身没有发生键，故院子的正电性较强，很容易和负电子的原子如氧、氮等发生吸附，它不易升温脱除，沉淀二氧化硅（白炭黑）的隔离羟基比气相二氧化硅多。

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