不同的CMP抛光液对蓝宝石研磨效果不应相同,而且研磨液对蓝宝石晶体研磨效率的提升和表面质量的改善具有一定的良好反应。
蓝宝石晶体因其优越的物理、光学性能,在LED衬底材料和固态激光发光介质中运用非常广泛,并且将运用到手机面板上。蓝宝石的广泛运用对它的光滑无损伤的表面研磨抛光技术提出了更高的要求,但蓝宝石因其物理、化学性能比较稳定,在加工上比较艰难。
在目前的工业上,对于蓝宝石的加工需要采用切片、研磨、抛光等等工序才能加工完成,其中研磨加工的作用是重中之重,因为研磨是工件获得良好平面度、保证抛光质量和效率的关键。单晶蓝宝石的研磨一般利用逐减小蓝宝石A向研磨液中一种磨料的立径,来控制研磨的进给量,来获得较好的表面粗糙度。由于研磨过程中,硬度较大的磨料在工件和研磨盘之间滚轧,容易造成较大的表面损伤层,增加了抛光时间;另外蓝宝石C向研磨液中磨料利用率低、耗费大、还污染环境。在当前,固结磨料由于可依靠凸起的磨料实现材料的微量切除而成为了效率低损伤加工的有效手段。
在固结磨料加工中,蓝宝石LED衬底抛光液的化学作用也不容忽视。在利用固结磨料抛光硅衬底中,比较了不同蓝宝石LED衬底抛光液对材料去除率和表面质量的影响,发现抛光液组分和pH值得改变对抛光效果具有较大影响,从而可以推断抛光液与工件表面具有一定的化学作用。
化学机械抛光液中存在一种化学物质可以软化水晶玻璃的表面表层,从而有利于材料的抛光速率的提高。但 由于蓝宝石的高化学稳定性,在详细的报告中并没有蓝宝石晶片研磨过程中研磨液起到的化学作用。
不同吉致抛光液对单晶蓝宝石的研磨抛光效果是不一样的,其中起到的微妙化学作用在无形中影响着蓝宝石晶片的抛光效率和表面损伤度。
无锡吉致电子科技有限公司25年专注于生产氧化铝抛光液、氧化硅抛光液、金刚石研磨液、氧化铈抛光液、碳化硅抛光液、不锈钢抛光液、铝合金抛光液、钛合金抛光液、蓝宝石抛光液、钼抛光液、钨钢抛光液、铜抛光液等。
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不同的CMP抛光液对蓝宝石研磨效果不应相同,而且研磨液对蓝宝石晶体研磨效率的提升和表面质量的改善具有一定的良好反应。蓝宝石晶体因其优越的物理、光学性能,在LED衬底材料和固态激光发光介质中运用非常广泛,并且将运用到手机面板上。蓝宝石的广泛运用对它的光滑无损伤的表面研磨抛光技术提出了更高的要求,但蓝宝石因其物理、化学性能比较稳定,在加工上比较艰难。 在目前的工业上,对于蓝宝石的加工需要采用
目前,蓝宝石基片是LED工业的可以选择衬底,蓝宝石表面的质量对LED器件的质量和性能有着非常重要的影响。因此,在生产蓝宝石基片时,对后一道工序抛光加工工序有很高的要求,要求蓝宝石基片的表面光滑、无缺陷,这也是蓝宝石衬底重要的制程。但是,由于蓝宝石晶体材料硬度高,脆性大,属于典型的难加工材料之一。因此,如何让抛光加工满足日益增长的严格要求长期以来备受关注。如今的化学机械抛光是一可实现全局平坦化的抛光方法
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