等离子表面活化机广泛应用于纺织品后整理。按照整理的目的和要求,可以实现纺织品的多功能加工,大大提高产品的附加值。目前,它在纺织品中的应用主要包括以下几类。
1)等离子表面活化机三防整理
传统式的纺织品三防整理,往往需要经过轧制、烘焙、烘焙等工序,工艺流程长,需要耗费大量能量;而且需要昂贵的整理剂等添加剂。因此,其加工成本高,整理后往往会影响或牺牲纤维或织物本身的特性和性能。更重要的是,这些整理剂或交联剂等添加剂可能含有或产生甲醛等有毒有害物质,因此其在高档产品或外贸产品中的应用越来越受到限制。等离子体表面活化机处理技术,特有的节能环保解决方式 ,可间接通过单个或有关汽体做为功能整理剂,对织物间接解决,同样是可实现传统式的三防整理(效果)。不需要从单个到功能整理剂的化学合成过程,不需要其他交联剂或添加剂,工艺节能环保简单。2)等离子表面活化机在涂层整理中的应用
在传统式的涂层整理工艺中,除了性能良好的涂层剂外,为了增强涂层和织物的剥离(强)力或附着力,各种交联剂往往起着非常重要的作用。等离子表面活化机处理技术能间接地替代交联剂,提高涂层织物的剥离强度。同时,由于可以减少或不使用交联剂,涂层织物的手感会得到有效改善。3)等离子表面活化机的其他功能整理
根据客户要求,采用等离子表面活化机处理技术,还可以对各种纺织品间接各种具体整理。传统工艺所能实现的(效果)一般都可以在等离子解决技术中实现。比如疏水合成纤维的抗静电处理,各种纺织品的阻燃处理,留香处理等等。词条
词条说明
plasma等离子处理TEOS工艺沉积二氧化硅薄膜的光谱研究
二氧化硅薄膜是一种性能优良的介质材料,它具有介电性能稳定,介质损耗小,耐潮性好,温度系数好等优点,具有较其稳定的化学性和电绝缘性。因此,二氧化硅在集成电路工艺中的应用很广泛。 正是由于二氧化硅薄膜在集成电路工艺中应用的广泛性,所以需要制备具有不同特性的二氧化硅薄膜,这就意味着要不断研发出各种新型的薄膜沉积技术。近年来,常压plasma等离子处理
大气等离子清洗机设备安装灵便简易,可与智能化生产流水线在线运用。利用等离子体内各种高能物质的活(化)影响,去除附着在物体表层的污垢。其基本原理:在氧等离子体中的氧原子自由基、刺激性氧分子、电子和紫外光线的相同影响下,油污分子结构后面被氧化变成水和CO2分子结构,并从物体表层去除。大气直喷等离子清洗机广泛应用于玻璃光学、手机制造、印刷、包装等诸多行业。 &nbs
?plasma等离子体能量密度对H2气氛下C2H6脱氢反应的影响
plasma等离子体能量密度为860 kJ/mol时,H2添加量对C2H6脱氢反应的影响:随着H2浓度增加,C2H6转化率,C2H2、C2H4和CH4收率均有所增加,这表明H2的加入有利于C2H6转化及C2H2、C2H4和CH4生成。产生上述结果的可能原因是:一方面氢气因其导热性好,可大量传递热量,在乙烷plasma等离子体中起稀释气体作用;另一方面氢气的H-H键断裂能为4.48eV,
等离子处理机诱导产生的活性种(例如自由基等),提供了表面二(乙二醇)甲醚分子碎片再次相结合做好反应的机制。自由基落入成的分子网络中,可触发剧烈的电子激发原位氧化反应。 对等离子处理机处理后的铝片分子层构造做ATR-FTIR剖析,在1583.07cm处有个较强的吸收峰,这也是PEG构造中C-O键的特征吸收峰,表明沉积的表面层是类PEG构造。1780.21cm处的吸收峰,说明有C
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