品牌 LM 型号 KFC--A12-02 较高电压 12(V) 额定发热电流 0.5(A) 用途 广泛 产品认证 ROHS
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Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积(PECVD)系统应用范围广泛,包含:基片或粉体的等离子诱导表面改性等离子清洗粉体或颗粒表面等离子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的选择性生长单晶或多晶金刚石生长 微波模块:NANO-MASTER高质量**命远程微波源,频率为2.45GH,微波发射功率可以自主调节,微波反射功率可通过调节降
一、磁控溅射的工作原理:磁控溅射是一种常用的物理气相沉积(PVD)的方法,具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好,成分接近靶材成分等众多优点。磁控溅射的工作原理是:在高真空的条件下充入适量的氩气,在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁) 之间施加几百K 直流电压,在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电,电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使氩气发生电离(在高压作用下Ar
广西师范大学RIE反应离子刻蚀机顺利验收近日,NANO-MASTER工程师至广西师范大学,顺利安装验收NRE-3000型RIE反应离子刻蚀系统!详细参数:1. 腔体:10”直径的圆柱形腔体;阳极氧化铝材质,抗腐蚀性强;上下盖设计,气动升降顶盖,一键实现上盖的开启/闭合;淋浴头设计,较佳的气流均匀分布2. 样品台:4”样品台;冷却功能;偏压功能,支持各向异性的垂直刻蚀;3. 质量流量控制
近日,NANO-MASTER工程师至浙江ZN硅业有限公司,顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备!NANO-MASTER的PECVD系统能够沉积高质量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可应用于等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。根据不同应用,可选用RF、HCP、ICP或MW微波等多种规格的离子源。标准样品台尺寸有6”和8”可选,较高可定制到1
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