恭祝ZN硅业NPE3500型PECVD顺利验收

时间：2024-12-27

近日，NANO-MASTER工程师至浙江ZN硅业有限公司，顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备！

NANO-MASTER的PECVD系统能够沉积高质量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可应用于等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。根据不同应用，可选用RF、HCP、ICP或MW微波等多种规格的离子源。标准样品台尺寸有6”和8”可选，较高可定制到16”或者其他更大的尺寸，样品台可提供RF、Pulse DC或DC偏压。样品台可提供电阻加热或红外灯加热。

系统标配涡轮分子泵和机械泵，极限真空到5*10-7Torr，腔体压力调节通过PC自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。

工艺过程通过触摸监控屏幕和Labview软件，可实现全自动的PC控制，具有高度的可重复性。系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护。能直接研发和量产应用。

NANO-MASTER的PECVD等离子体化学气相沉积选配项

验收培训

词条
词条说明
福州大学离子束刻蚀机顺利验收
烈日炎炎，热情满心间！后疫情时代，NANO-MASTER工程师步履不停，一站接一站为客户提供设备安装调试服务。首站福州大学，那诺-马斯特工程师已顺利安装验收NIE-3500型离子束刻蚀机！性能配置：离子束刻蚀机用于刻蚀金属和介质，z大可支持6”晶圆。配套美国考夫曼-罗宾逊 KDC160离子枪，650mA，100-1200V。刻蚀速率：~250A/min对Au；刻蚀均匀度：对4”片，片内均匀性优于±
恭祝ZN硅业NPE3500型PECVD顺利验收
近日，NANO-MASTER工程师至浙江ZN硅业有限公司，顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备！NANO-MASTER的PECVD系统能够沉积高质量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可应用于等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。根据不同应用，可选用RF、HCP、ICP或MW微波等多种规格的离子源。标准样品台尺寸有6”和8”可选，较高可定制到1
*远程微波PECVD系统
Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积（PECVD）系统应用范围广泛，包含：基片或粉体的等离子诱导表面改性等离子清洗粉体或颗粒表面等离子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的选择性生长单晶或多晶金刚石生长微波模块：NANO-MASTER高质量**命远程微波源，频率为2.45GH，微波发射功率可以自主调节，微波反射功率可通过调节降
详解磁控溅射技术
一、磁控溅射的工作原理：磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。磁控溅射的工作原理是：在高真空的条件下充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使氩气发生电离（在高压作用下Ar