喷涂铬管靶

时间：2021-04-16作者：醴陵市利吉升新材料有限公司浏览：481

喷涂铬管靶

成型工艺：热等静压、喷涂

用途：工具镀膜、装饰镀膜、建筑玻璃镀膜

常规尺寸：ID125xOD145~155xL （mm）








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  词条说明

• 【高**靶材】溅射靶材的主要应用

  溅射靶材的主要应用溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。分类 根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等 根据应用领

• 钌靶材的产品优势

  产品优势：1、耐化学腐蚀氧化锆、氧化铝陶瓷有很强的耐化学腐蚀的特性!2、耐摔性一家具备这个技术, 陶瓷棒从高空跌落完好无损,耐摔!3、**耐磨氧化锆、氧化铝陶瓷结构产品具有很强的耐磨性!4、耐高温氧化锆、氧化铝陶瓷可耐高温1600度以上!5、防静电氧化锆、氧化铝陶瓷为防静电材料, 适用无尘区域!6、防火性氧化锆、氧化铝陶瓷对燃烧的火焰有较强防护能力!

• 喷涂铬管靶

  喷涂铬管靶成型工艺：热等静压、喷涂用途：工具镀膜、装饰镀膜、建筑玻璃镀膜常规尺寸：ID125xOD145~155xL （mm）

• 浅谈半导体靶材

  靶材，特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。所谓溅射，是制备薄膜材料的主要技术，也是PVD的一种。它通过在PVD设备中用离子对目标物进行轰击，使得靶材中的金属原子以一定能量逸出，从而在晶圆表面沉积，溅镀形成金属薄膜，其中被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称