【高**靶材】溅射靶材的主要应用

时间：2021-06-01

溅射靶材的主要应用

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
分类根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材磁控溅射原理：在被溅射的靶较(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，*磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶较发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
磁控溅射镀膜靶材：
金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材，氮化物陶瓷溅射靶材，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材，硅化物陶瓷溅射靶材，硫化物陶瓷溅射靶材，碲化物陶瓷溅射靶材，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
高纯高密度溅射靶材有：
溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
1. 金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。

18681059431

词条
词条说明
贵金属靶材是什么？有哪些？
贵金属靶材是什么？有什么？选用精练、融化煅造、压延加工或粉未冶金工业加工工艺生产的半导体元器件、纪录新闻媒体显示器件等的布线和塑料薄膜的贵金属以及合金的溅射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用以电子器件和规模性电子器件，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用以磁记录。轻贵金属银、钌、铑、钯的统称。相对密度在10~12/cm中间。重贵金属金、锇、铱、铂的统称，相对密度在19~22g/cm3中间。
钯靶材厂家带你了解靶材
钯靶材厂家带你了解靶材什么是靶材？靶材是制备薄膜的主要材料之一，比如镀膜靶材，通过磁控溅射，在适当的工艺条件下，溅射在基体上形成各种所需功能薄膜的溅射源。当然还有其它镀膜工艺，比如真空离子镀膜、蒸发镀膜等等电镀工艺。根据所需求工艺应用的不同，对靶材的种类选择也不同。所以说得简单一点，靶材就是真空电镀材料炉里的靶，你也可以简单理解为电镀材料的一种。靶材就材质分类而言分为三大类：1. 金属靶材 2.陶
钯靶材的制作方法
目前靶材的制备主要有铸造法和粉末冶金法。铸造法：将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金溶液浇注于模具中，形成铸锭，最后经机械加工制成靶材，铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等，其优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低，密度高，可大型化;缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属，普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。粉末冶金法：将一定成分
导体靶材行业市场、产品种类及技术壁垒分析
1、半导体溅射靶材行业市场空间广根据统计，2015 年**半导体材料销售额为435 亿美元，其中晶圆制造材料销售额为242 亿美元，封装材料为193 亿美元。在晶圆制造材料中，溅射靶材约占芯片制造材料市场的2.6%。在封装测试材料中，溅射靶材约占封装测试材料市场的2.7%。从2011-2015年，世界半导体用靶较溅射材料市场从10.1亿美元，增长至11.4亿美元，复合增长率为3.1%。2016年