简易说的话,靶材便是快速荷能粒子负电子的总体目标原材料。有金属材料类、铝合金类、金属氧化物类这些。例如:蒸发射频溅射镀膜是加温蒸发镀膜...铝模等。拆换不一样的靶材(如铝、铜、不锈钢板、钛、镍靶等),就可以获得不一样的膜系(如超硬、耐磨损、防腐蚀的铝合金膜等)。
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词条说明
众所周知,靶材材料的技术发展趋势与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关,随着应用产业在薄膜产品或元件上的技术改进,靶材技术也应随之变化。如Ic制造商.近段时间致力于低电阻率铜布线的开发,预计未来几年将大幅度取代原来的铝膜,这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。另外,近年来平面显示器(FPD)大幅度取代原以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场.亦将大幅增加ITO靶材的技术与市场需
产品优势:1、耐化学腐蚀氧化锆、氧化铝陶瓷有很强的耐化学腐蚀的特性!2、耐摔性一家具备这个技术, 陶瓷棒从高空跌落完好无损,耐摔!3、**耐磨氧化锆、氧化铝陶瓷结构产品具有很强的耐磨性!4、耐高温氧化锆、氧化铝陶瓷可耐高温1600度以上!5、防静电氧化锆、氧化铝陶瓷为防静电材料, 适用无尘区域!6、防火性氧化锆、氧化铝陶瓷对燃烧的火焰有较强防护能力!
简易说的话,靶材便是快速荷能粒子负电子的总体目标原材料。有金属材料类、铝合金类、金属氧化物类这些。例如:蒸发射频溅射镀膜是加温蒸发镀膜...铝模等。拆换不一样的靶材(如铝、铜、不锈钢板、钛、镍靶等),就可以获得不一样的膜系(如超硬、耐磨损、防腐蚀的铝合金膜等)。
目前靶材的制备主要有铸造法和粉末冶金法。铸造法:将一定成分配比的合金原料熔炼,再将合金溶液浇注于模具中,形成铸锭,最后经机械加工制成靶材,铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等,其优点是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大型化;缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。粉末冶金法:将一定成分
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