上海日本减压阀厂家：专业、可靠的减压阀供应商

时间：2023-09-26

详细介绍
   应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。
    该系列设备主要是使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不绣钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
    主机控制采用可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电气控制系统。全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。

设备技术参数说明
 
设备型号       ZCK-1200   ZCK-1400   ZCK-1600   ZCK-1800 
真空室尺寸     1200×1500  1400×1950  1600×1950  1800×1950 
制膜种类       多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等 
电源类型       直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源 
圆柱靶         直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶 
真空室结构     立式双开门、立式单开门 
真空系统       滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统） 
充气系统       质量流量控制仪（1-4路） 
极限真空       6×10－4pa（空载、净室） 
抽气时间       空载大气抽至5×10－3pa小于15分钟 
工件旋转方式   6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速 
控制方式       手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC 
备注           真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

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词条
词条说明
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